व्हॅक्यूम कोटिंगसाठी उच्च शुद्धता टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्य

संक्षिप्त वर्णन:

फिजिकल वाफ डिपॉझिशन (PVD) प्रक्रियेमध्ये टायटॅनियमच्या पातळ फिल्म्स सब्सट्रेट्सवर जमा करण्यासाठी टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्यांचा वापर केला जातो.उच्च-शुद्धतेच्या टायटॅनियमपासून बनविलेले, हे लक्ष्य अर्धसंवाहक उत्पादन, इलेक्ट्रॉनिक आणि ऑप्टिकल कोटिंग्जचे पातळ फिल्म डिपॉझिशन आणि पृष्ठभाग अभियांत्रिकी यांसारख्या अनुप्रयोगांमध्ये वापरले जातात.


उत्पादन तपशील

उत्पादन टॅग

  • स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री म्हणजे काय?

स्पटर टार्गेट्स हे फिजिकल वाफ डिपॉझिशन (PVD) प्रक्रियेमध्ये वापरल्या जाणाऱ्या उच्च-शुद्धतेचे साहित्य आहेत, विशेषतः स्पटरिंग तंत्रज्ञान.सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग, ऑप्टिकल कोटिंग्स आणि इलेक्ट्रॉनिक उपकरणांसाठी पातळ फिल्म डिपॉझिशनसह विविध उद्योगांमध्ये सब्सट्रेट्सवर पातळ फिल्म्स तयार करण्यासाठी या सामग्रीचा वापर केला जातो.

स्पटर टार्गेट मटेरियल धातू, मिश्र धातु, ऑक्साइड आणि नायट्राइड्ससह विविध घटक आणि संयुगे बनवता येते.स्पटर लक्ष्य सामग्रीची निवड पातळ फिल्म कोटिंगसाठी आवश्यक असलेल्या विशिष्ट गुणधर्मांवर अवलंबून असते, जसे की विद्युत चालकता, ऑप्टिकल गुणधर्म, कडकपणा आणि रासायनिक प्रतिकार.

सामान्य स्पटरिंग लक्ष्यांमध्ये टायटॅनियम, ॲल्युमिनियम आणि तांबे यांसारखे धातू तसेच इंडियम टिन ऑक्साईड (ITO) आणि विविध धातूंचे ऑक्साईड यांसारखे संयुगे यांचा समावेश होतो.पातळ फिल्म कोटिंग्जची इच्छित वैशिष्ट्ये आणि कार्यप्रदर्शन साध्य करण्यासाठी योग्य स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री निवडणे महत्वाचे आहे.

टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्य (2)
  • एक sputtering लक्ष्य काय आकार आहे?

थिन फिल्म डिपॉझिशन प्रक्रियेच्या आणि स्पटरिंग उपकरणांच्या विशिष्ट आवश्यकतांनुसार स्पटरिंग लक्ष्य विविध आकारात येतात.स्पटरिंग लक्ष्याचा आकार काही सेंटीमीटर ते दहा सेंटीमीटर व्यासाचा असू शकतो आणि जाडी देखील बदलू शकते.

स्पटरिंग टार्गेटचा आकार लेपित केल्या जाणाऱ्या सब्सट्रेटचा आकार, स्पटरिंग सिस्टमचे कॉन्फिगरेशन आणि इच्छित डिपॉझिशन रेट आणि एकसमानता यासारख्या घटकांद्वारे निर्धारित केले जाते.याव्यतिरिक्त, स्पटरिंग टार्गेटचा आकार पातळ फिल्म ऍप्लिकेशनच्या विशिष्ट आवश्यकतांमुळे प्रभावित होऊ शकतो, जसे की कोटिंग केलेले क्षेत्र आणि एकूण प्रक्रिया पॅरामीटर्स.

शेवटी, सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंग, ऑप्टिकल कोटिंग्ज आणि इतर संबंधित अनुप्रयोगांमध्ये पातळ फिल्म कोटिंग प्रक्रियेच्या विशिष्ट गरजा पूर्ण करून, सब्सट्रेटवर फिल्मचे कार्यक्षम आणि एकसमान संचय सुनिश्चित करण्यासाठी स्पटर लक्ष्याचा आकार निवडला जातो.

टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्य (3)
  • मी माझ्या थुंकण्याचे प्रमाण कसे वाढवू शकतो?

थुंकण्याच्या प्रक्रियेत स्पटरिंग रेट वाढवण्याचे अनेक मार्ग आहेत:

1. पॉवर आणि प्रेशर ऑप्टिमायझेशन: स्पटरिंग सिस्टममध्ये पॉवर आणि प्रेशर पॅरामीटर्स समायोजित केल्याने स्पटरिंग रेटवर परिणाम होऊ शकतो.शक्ती वाढवणे आणि दबाव परिस्थिती अनुकूल करणे थुंकण्याचे प्रमाण वाढवू शकते, ज्यामुळे पातळ फिल्म जलद जमा होते.

2. टार्गेट मटेरियल आणि भूमिती: ऑप्टिमाइझ केलेल्या मटेरियल कंपोझिशन आणि भूमितीसह स्पटरिंग टार्गेट्स वापरल्याने स्पटरिंग रेट सुधारू शकतो.उच्च-गुणवत्तेचे, चांगल्या प्रकारे डिझाइन केलेले स्पटरिंग लक्ष्य थुंकण्याची कार्यक्षमता वाढवू शकतात आणि उच्च जमा होण्याचे दर वाढवू शकतात.

3. लक्ष्य पृष्ठभाग तयार करणे: स्पटरिंग लक्ष्य पृष्ठभागाची योग्य साफसफाई आणि कंडिशनिंग स्पटरिंग दर वाढण्यास योगदान देऊ शकते.लक्ष्य पृष्ठभाग दूषित आणि ऑक्साइडपासून मुक्त असल्याची खात्री केल्याने थुंकण्याची कार्यक्षमता सुधारू शकते.

4. सब्सट्रेट तापमान: सब्सट्रेट तापमान नियंत्रित केल्याने थुंकण्याच्या दरावर परिणाम होऊ शकतो.काही प्रकरणांमध्ये, एका विशिष्ट मर्यादेत सब्सट्रेट तापमान वाढवण्यामुळे थुंकण्याचे प्रमाण वाढू शकते आणि फिल्मची गुणवत्ता सुधारू शकते.

5. गॅस फ्लो आणि कंपोझिशन: स्पटरिंग चेंबरमधील गॅस फ्लो आणि कंपोझिशन ऑप्टिमाइझ केल्याने स्पटरिंग रेटवर परिणाम होऊ शकतो.गॅस प्रवाह दर समायोजित करणे आणि योग्य स्पटरिंग गॅस मिश्रणाचा वापर केल्याने स्पटरिंग प्रक्रियेची कार्यक्षमता वाढू शकते.

या घटकांचा काळजीपूर्वक विचार करून आणि स्पटरिंग प्रक्रियेच्या पॅरामीटर्सला अनुकूल करून, स्पटरिंग रेट वाढवणे आणि स्पटरिंग ऍप्लिकेशन्समध्ये पातळ फिल्म डिपॉझिशनची एकूण कार्यक्षमता सुधारणे शक्य आहे.

टायटॅनियम स्पटरिंग लक्ष्य

मोकळ्या मनाने आमच्याशी संपर्क साधा!

Wechat: 15138768150

WhatsApp: +86 15838517324

E-mail :  jiajia@forgedmoly.com


  • मागील:
  • पुढे:

  • तुमचा संदेश इथे लिहा आणि आम्हाला पाठवा