Кина чист 99,95% волфрам цел волфрам диск за индустрија Производител и добавувач |Фалсификуван волфрам

чист 99,95% волфрам цел волфрам диск за индустрија

Краток опис:

Волфрамските цели и волфрамските дискови најчесто се користат во различни индустриски апликации, особено во процесите на таложење и обложување на тенок филм.Волфрамот е познат по неговата висока точка на топење, одлична топлинска спроводливост и отпорност на корозија, што го прави идеален материјал за такви апликации.

Испратете ни е-пошта Преземете како PDF

Детали за производот

Ознаки на производи

Што е цел волфрам?

Целите на волфрам се специјализиран материјал кој се користи во процесот на физичко таложење на пареа (PVD) и вообичаено се користат за производство на тенки фолии за различни индустриски апликации.Волфрамските цели обично се направени од волфрам со висока чистота и се дизајнирани за таложење на тенки слоеви на подлоги во PVD системи.

Во процесот на PVD, извор со висока енергија како што е електронски зрак или плазма се користи за бомбардирање на волфрамска цел, предизвикувајќи атомите да се исфрлат од целта.Овие исфрлени атоми потоа минуваат низ вакуумска комора и се депонираат на површината на подлогата, формирајќи тенок филм.

Целите на волфрам се ценети поради нивната висока точка на топење, што им овозможува да ги издржат високите температури генерирани за време на PVD.Покрај тоа, одличната топлинска спроводливост и отпорноста на корозија на волфрам го прават идеален материјал за PVD системи.

Тенките филмови произведени со употреба на волфрамски цели имаат широк опсег на апликации вклучувајќи ја индустријата за полупроводници, оптиката, електрониката и сончевата енергија.Карактеристиките на филмот, како што се спроводливост, рефлексивност и цврстина, може да се прилагодат со прилагодување на процесот на таложење, правејќи ги волфрамските цели разноврсна алатка за индустриско производство на тенок филм.

Зошто се користи волфрам како целен материјал?

Волфрамот се користи како цел во процесот на физичко таложење на пареа (PVD) поради неколку причини:

1. Висока точка на топење: Волфрамот има највисока точка на топење меѓу сите метали, па затоа е погоден да ги издржи високите температури генерирани за време на PVD процесот.Ова им овозможува на целта на волфрам да издржи термички стрес и да го задржи својот структурен интегритет за време на таложењето.

2. Топлинска спроводливост: Волфрамот има одлична топлинска спроводливост и помага да се исфрли топлината што се создава за време на процесот на PVD.Ова својство е од клучно значење за одржување на стабилноста на целта и за обезбедување на еднообразно таложење на филмот.

3. Хемиски инертен: Волфрамот има силна отпорност на хемиски реакции и корозија, што го прави идеален материјал за PVD процесот.Во процесот на PVD, целниот материјал мора да остане стабилен во присуство на реактивни гасови или високоенергетска плазма.

4. Квалитет на филмот: Целите од волфрам можат да произведат висококвалитетни филмови со идеални својства како што се висока густина, униформност и адхезија на подлогите, што ги прави погодни за широк опсег на индустриски апликации.

Севкупно, уникатната комбинација на својства што ги покажува волфрамот, вклучувајќи висока точка на топење, топлинска спроводливост и хемиска стабилност, го прават одличен целен избор во процесот на PVD, способен за производство на различни филмови со високи перформанси.Индустриски апликации.