Методот на таложење на дијаманти со хемиска пареа (CVD) вклучува користење на хемиски процес за синтеза на дијамантски филм или облога во контролирана средина. Во овој метод, мешавината на гас, која обично содржи гасови од јаглеводород како што е метан, се внесува во комората за реакција заедно со супстратниот материјал како што се молибденските наполитанки или дијамантските наполитанки. Гасот потоа се активира со различни средства, како топлина или плазма, за да ги разложи молекулите на јаглеводородот и да таложи јаглеродни атоми на подлогата, што резултира со раст на дијамантски кристали.

CVD процесот на дијамант нуди неколку предности, вклучувајќи ја и можноста за производство на висококвалитетни дијамантски облоги со прецизна контрола на дебелината, униформноста и составот. Исто така, овозможува таложење на дијамантски филмови на различни материјали од подлогата, овозможувајќи создавање на делови обложени со дијамант за различни индустриски и истражувачки апликации.

Севкупно, CVD методот на дијамант е разноврсна и широко користена техника за производство на синтетички дијамантски филмови и облоги со приспособени својства, што ги прави вредни во индустриите како што се електрониката, алатките за сечење и премази отпорни на абење.