Ny teknôlôjian'ny vacuum evaporation ho an'ny metallization dia ny fametrahana sarimihetsika manify amin'ny metaly amin'ny substrate amin'ny alàlan'ny tontolo banga avo lenta sy ny fizotry ny fametrahana etona ara-batana (PVD).Amin'ity teknôlôjia ity, ny akora loharano metaly, toy ny alimo, volamena na volafotsy, dia hafanaina ao anaty sambo evaporation, ka mahatonga azy ho etona ary avy eo mipoitra eo amin'ny substrate mba hamorona sarimihetsika metaly manify sy mitovitovy.

Ny dingana tafiditra amin'ny teknôlôjian'ny vacuum evaporation metallization amin'ny ankapobeny dia ahitana:

1. Fiomanana: Diovy ny substrate ho metaly ary apetraho ao anaty efitrano banga.

2. Evaporation: Apetraho ao anaty sambo etona ny fitaovana loharanon-karena, toy ny sambo tungstène, ary hafanaina amin'ny mari-pana etona ao anaty tontolo banga avo.Rehefa lasa etona ny metaly, dia mihetsika amin'ny tsipika mahitsy mankany amin'ny substrate.

3. Deposition: Ny etona metaly dia mipoitra eo amin'ny substrate mba hamorona sarimihetsika manify izay miraikitra amin'ny tany.

4. Fitomboan'ny sarimihetsika: Mitohy ny fizotran'ny déposition mandra-pahatongan'ny hatevin'ny sarimihetsika metaly tadiavina.

5. Fanodinana manaraka: Aorian'ny fametahana metaly, ny substrate dia mety handalo dingana fanodinana fanampiny, toy ny fametahana na coating, mba hanatsarana ny toetran'ny sarimihetsika metaly.

Ny teknolojia metallization vacuum evaporation dia ampiasaina betsaka amin'ny indostria toy ny elektronika, optika ary automotive, izay misy sarimihetsika metaly ampiharina amin'ny substrate mba hahatratrarana conductive, reflective, na haingo.