China High fahadiovana titane sputtering tanjona ho an'ny banga coating Manufacturer sy Supplier

Titanium sputtering tanjona ho an'ny vacuum coating

Titanium sputtering kendrena ho an'ny vacuum coating Featured Image

Famaritana fohy:

Ny lasibatra fikorianan'ny titanium dia ampiasaina amin'ny fizotry ny fametrahana etona ara-batana (PVD) mba hametrahana sarimihetsika manify amin'ny titane amin'ny substrate. Vita amin'ny titane madio tsara, ireo tanjona ireo dia ampiasaina amin'ny fampiharana toy ny famokarana semiconductor, fametrahana sarimihetsika manify amin'ny coating elektronika sy optika, ary injeniera amin'ny tany.

Alefaso mailaka aminay Alefaso amin'ny PDF

Product Detail

Tags vokatra

Inona no atao hoe sputtering fitaovana kendrena?

Ny lasibatry ny sputter dia fitaovana madio indrindra ampiasaina amin'ny fizotry ny fametrahana etona ara-batana (PVD), indrindra ny teknolojia sputtering. Ireo fitaovana ireo dia ampiasaina hamoronana sarimihetsika manify amin'ny substrate amin'ny indostria isan-karazany, ao anatin'izany ny famokarana semiconductor, coatings optika, ary fametrahana sarimihetsika manify ho an'ny fitaovana elektronika.

Ny fitaovana kendrena sputter dia azo atao amin'ny singa isan-karazany sy ny fitambarana, ao anatin'izany ny metaly, alloys, oxides ary nitride. Ny safidin'ny fitaovana kendrena sputter dia miankina amin'ny toetra manokana ilaina amin'ny coating film manify, toy ny conductivity elektrika, ny toetra optique, ny hamafin'ny sy ny fanoherana simika.

Ny lasibatra mahazatra amin'ny sputtering dia ahitana metaly toy ny titane, aliminioma ary varahina, ary koa ny fitambarana toy ny indium tin oxide (ITO) sy ny oxides metaly isan-karazany. Ny fisafidianana ny fitaovana kendrena sputtering mety dia zava-dehibe amin'ny fanatrarana ny toetra irina sy ny fampisehoana ny coatings film manify.

Inona ny haben'ny lasibatra sputtering?

Ny kendrena sputtering dia tonga amin'ny habe isan-karazany miankina amin'ny fepetra manokana amin'ny fizotry ny fametrahana sarimihetsika manify sy ny fitaovana sputtering. Ny haben'ny kendrena sputtering dia mety manomboka amin'ny santimetatra vitsivitsy ka hatramin'ny folo santimetatra ny savaivony, ary mety miovaova koa ny hateviny.

Ny haben'ny lasibatra sputtering dia faritana amin'ny lafin-javatra toy ny haben'ny substrate hosaronana, ny fanamafisana ny rafitra sputtering, ary ny tahan'ny deposition sy ny fitoviana irina. Fanampin'izany, ny haben'ny kendrena sputtering dia mety hisy fiantraikany amin'ny fepetra manokana amin'ny fampiharana sarimihetsika manify, toy ny faritra hosaronana sy ny masontsivana dingana amin'ny ankapobeny.

Amin'ny farany, ny haben'ny lasibatra sputter dia nofantenana mba hiantohana ny fametrahana mahomby sy fanamiana ny sarimihetsika eo amin'ny substrate, mahafeno ny filana manokana amin'ny fizotry ny fametahana sarimihetsika manify amin'ny famokarana semiconductor, coatings optika ary fampiharana hafa mifandraika amin'izany.

Ahoana no ahafahako mampitombo ny tahan'ny sputtering?

Misy fomba maro hampitomboana ny tahan'ny sputtering amin'ny dingana sputtering:

1. Fanamafisana ny hery sy ny tsindry: Mety hisy fiantraikany amin'ny tahan'ny sputtering ny fanitsiana ny mari-pandrefesana sy ny tsindry ao amin'ny rafitra sputtering. Ny fampitomboana ny hery sy ny fanatsarana ny fepetra fanerena dia afaka manatsara ny tahan'ny sputtering, mitarika amin'ny fametrahana haingana kokoa ny sarimihetsika manify.

2. Fitaovam-pitaovana sy jeometrika: Ny fampiasana lasibatra mitsimoka miaraka amin'ny firafitry ny akora sy jeometrika nohatsaraina dia afaka manatsara ny tahan'ny sputtering. Ny kendrena sputtering avo lenta sy voavolavola tsara dia afaka manatsara ny fahombiazan'ny sputtering ary mitarika ho amin'ny tahan'ny déposition ambony kokoa.

3. Fiomanana amin'ny lafiny kendrena: Ny fanadiovana araka ny tokony ho izy sy ny fampandehanana ny sisin-tany kendrena sputtering dia mety hampitombo ny tahan'ny sputtering. Ny fiantohana fa tsy misy loto sy oksizenina ny faritra kendrena dia afaka manatsara ny fahombiazan'ny sputtering.

4. Temperature substrate: Ny fifehezana ny mari-pana amin'ny substrate dia mety hisy fiantraikany amin'ny tahan'ny sputtering. Amin'ny toe-javatra sasany, ny fampiakarana ny mari-pana amin'ny substrate ao anatin'ny elanelana sasany dia mety hampitombo ny tahan'ny sputtering sy fanatsarana ny kalitaon'ny sarimihetsika.

5. Ny fikorianan'ny entona sy ny firafitry ny entona: Ny fanatsarana ny fikorianan'ny entona sy ny firafitry ny entona ao amin'ny efi-tranon'ny sputtering dia mety hisy fiantraikany amin'ny tahan'ny sputtering. Ny fanitsiana ny tahan'ny fikorianan'ny entona sy ny fampiasana ireo fangaro entona mitsimoka mifanaraka amin'izany dia afaka manatsara ny fahombiazan'ny fizotran'ny sputtering.

Amin'ny fandinihana tsara ireo lafin-javatra ireo sy ny fanatsarana ny masontsivana fizotry ny sputtering, dia azo atao ny mampitombo ny tahan'ny sputtering ary manatsara ny fahombiazan'ny fametrahana sarimihetsika manify amin'ny fampiharana sputtering.