ວິທີການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD) ຂອງເພັດກ່ຽວຂ້ອງກັບການນໍາໃຊ້ຂະບວນການທາງເຄມີເພື່ອສັງເຄາະແຜ່ນເພັດຫຼືການເຄືອບໃນສະພາບແວດລ້ອມຄວບຄຸມ.ໃນວິທີການນີ້, ທາດປະສົມຂອງອາຍແກັສ, ປົກກະຕິແລ້ວປະກອບດ້ວຍອາຍແກັສ hydrocarbon ເຊັ່ນ: methane, ໄດ້ຖືກນໍາສະເຫນີເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງຕິກິຣິຍາຮ່ວມກັນກັບວັດສະດຸຍ່ອຍສະຫຼາຍເຊັ່ນ molybdenum wafers ຫຼື wafers ເພັດ.ຫຼັງຈາກນັ້ນ, ອາຍແກັສໄດ້ຖືກກະຕຸ້ນໂດຍວິທີການຕ່າງໆ, ເຊັ່ນ: ຄວາມຮ້ອນຫຼື plasma, ເພື່ອທໍາລາຍໂມເລກຸນ hydrocarbon ແລະຝາກປະລໍາມະນູກາກບອນໃສ່ substrate, ສົ່ງຜົນໃຫ້ການຈະເລີນເຕີບໂຕຂອງໄປເຊຍກັນເພັດ.

ຂະບວນການ CVD ຂອງເພັດສະເຫນີຂໍ້ໄດ້ປຽບຫຼາຍ, ລວມທັງຄວາມສາມາດໃນການຜະລິດການເຄືອບເພັດທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງດ້ວຍການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນຂອງຄວາມຫນາ, ຄວາມສອດຄ່ອງແລະອົງປະກອບ.ນອກຈາກນີ້ຍັງອະນຸຍາດໃຫ້ການຝາກຂອງຮູບເງົາເພັດໃສ່ແນວພັນຂອງວັດສະດຸ substrate, ເຮັດໃຫ້ການສ້າງພາກສ່ວນທີ່ເຄືອບເພັດສໍາລັບຊະນິດຂອງຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອຸດສາຫະກໍາແລະການຄົ້ນຄວ້າ.

ໂດຍລວມແລ້ວ, ວິທີການ CVD ຂອງເພັດແມ່ນເຕັກນິກທີ່ຫລາກຫລາຍແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການຜະລິດຮູບເງົາເພັດສັງເຄາະແລະການເຄືອບດ້ວຍຄຸນສົມບັດທີ່ກໍາຫນົດເອງ, ເຮັດໃຫ້ມັນມີຄຸນຄ່າໃນອຸດສາຫະກໍາເຊັ່ນເອເລັກໂຕຣນິກ, ເຄື່ອງມືຕັດ, ແລະການເຄືອບທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່.