Vacuum evaporatio technologiae metallizationis involvit tenuissimas membranas metallicas in subiecta utens magno ambitu vacuo et vapori physico (PVD) processus.In hac technologia, fons metallicus materialis, sicut aluminium, aurum vel argentum, in evaporatione navi calefit, causando eam exalare et deinde in subiectum condensare ut cinematographicum tenue et uniforme formet.

Gradus implicati in technologia metallizatione vacuo evaporationis plerumque includunt:

1. Praeparatio: Substratum emundandum metallo et pone in cubiculo vacuo.

2. Evaporatio: Pone materiam fontis metalli in navi evaporationis, sicut tungsten, et calefacies eam ad evaporationem temperie in magno vacui ambitu.Metallum cum euanescit, recta ad subiectum movetur.

3. Depositio: Vapor metallicus condensat in subiecta velo tenuis formae quae superficiei adhaeret.

4. cinematographica incrementa: Depositio processus pergit usque dum crassitudo cinematographici desiderati attingitur.

5. Processus subsequens: Post metallizationem, subiectum subire potest gradus processus additos, sicut furnum vel tunica, ad augendas proprietates cinematographici metalli.

Vacuum evaporatio metallizationis technologiae late adhibetur in industriis sicut electronicis, opticis, et autocinetis, ubi membranae metallicae subiectae sunt ad perficiendas res conductivas, reflectivas, vel decorativas applicandas.