Sina pura 99,95% tungsten target tungsten discus industriae Fabricator et Supplier |commenticius Wolframium

pura 99,95% tungsten scopum tungsten discus industriae

purus 99,95% tungsten target tungsten discus industriae Featured Image

Description:

Scuta tungsten et disci tungsten communiter adhibita sunt in variis applicationibus industriae, praesertim in tenuibus depositionibus et processibus membranaceis.Tungsten notum est propter altitudinem liquationis punctum, optimum scelerisque conductivity et corrosio resistentiae, quae materiam huiusmodi applicationis idealem facit.

Mitte ad nos inscriptio Download as PDF

Product Detail

Product Tags

Quid est, Tungsten scopum?

Scuta Tungsten specialia sunt materialia adhibita in depositionis vaporis physici (PVD) processu et communiter adhibentur ad membranas tenues pro variis applicationibus industriae inducendis.Scuta Tungsten typice facta sunt ex altissima castitate tungsten et ordinantur ad deponendas membranas tenues in systematis PVD subiectas.

In PVD processu, summus industria fons ut trabs electronica vel plasma ad scopum tungi bombardarum adhibetur, atomos e scopum eiciendi causans.Haec atomi ejectae per conclave vacuum transeunt et in superficiem subiecti deponuntur, cinematographicum tenue formans.

Scuta Tungsten aestimantur pro puncto summo liquefacto, quod permittit eas temperaturas in PVD generatas sustinere.In addition, tungsten praestantissima scelerisque conductivity et corrosio resistentiae, illam materiam idealem systematis PVD.

Tenues membranae producuntur utentes scuta tungsten amplis applicationes habent incluso industria semiconductoris, optici, electronici et energiae solaris.Proprietates pelliculae, ut conductivity, reflectivitatis et duritiae, nativus fieri possunt, processu depositionis aptando, tungsten fabricando instrumentum versatile pro tenui cinematographici industriali productione.

Cur tungsten usus est ut materia scopum?

Tungsten adhibetur ut scopum in vaporum physicorum depositionis (PVD) processu pluribus de causis;

1. Altum punctum liquescens: Tungsten summum punctum liquescens inter omnia metalla habet, itaque temperaturas in processu PVD generatas sustinere convenit.Hoc permittit ut scopum Tungrorum scelerisque vim sustineat et eius integritatem structuram in depositione servet.

2. Conductivity scelerisque: Tungsten scelerisque conductivity egregias habet et adiuvat ut calorem in processu PVD generatum dissipant.Haec proprietas critica est ad scopum stabilitatis obtinendum ac depositionem cinematographici uniformis praestandi.

3. Chemice iners: Tungsten fortiter resistit ad reactiones chemicas et corrosionem, faciens illam materiam idealem pro processu PVD.In PVD processu, materia scopum stabilis debet manere coram gasis reciprocis vel summo energiae plasmatis.

4. Pelliculae qualitas: scuta Tungsten producere possunt cinematographica summus qualitas cum idealibus proprietatibus sicut densitatem, uniformitatem et adhaesionem subiectae, quae aptas facit ad amplis applicationibus industriae.

Altiore, unica coniunctio proprietatum ab tungsten exhibitae, inter alta punctum liquescens, scelerisque conductivity et chemicae stabilitatis, egregium scopum electionem efficit in processu PVD, quae varias cinematographicas summus effectus producere potest.Industriae applicationes.