Depositio vaporis chemici (CVD) methodus adamantis involvit utens processum chemicum ad cinematographicum adamantem vel efficiens in ambitu moderato. Hoc modo, mixtura gasi hydrocarbonum typice continens sicut methanum, in cameram reactionem una cum materia subiecta inducitur ut lagana molybdenum vel lagana adamantina. Vapor dein variis mediis agitatur, ut calor vel plasma, ut hydrocarbonum moleculae destruat et atomi carbonis carbonis in subiectum deponat, unde in cristallum adamantinum augendo.

Processus CVD adamantis plures utilitates praebet, possidet facultatem producendi summus qualitas adamas coatings cum subtili moderatione crassitudinis, aequalitatis et compositionis. Etiam permittit depositionem membranae adamantinae in variis materiis subiectis, ut creationem partium adamantinae pro variis applicationibus industriae et inquisitionis efficiat.

Super, methodus CVD adamantis versatilis est et late usus artificii ad membranas syntheticas producendas et adamantis membranas cum proprietatibus nativus conficiendis, eosque pretiosos facit in industriis ut electronicas, instrumenta secanda, et indumenta resistentia.