Алмаздын химиялык буу катмары (CVD) ыкмасы алмаз пленкасын же каптоосун контролдонуучу чөйрөдө синтездөө үчүн химиялык процессти колдонууну камтыйт.Бул ыкмада, адатта, метан сыяктуу углеводороддук газдарды камтыган газ аралашмасы, молибден пластиналары же алмаз пластиналары сыяктуу субстрат материалы менен бирге реакциялык камерага киргизилет.Андан кийин газ жылуулук же плазма сыяктуу түрдүү каражаттар менен активдештирилип, углеводороддун молекулаларын ыдыратып, көмүртек атомдорун субстратка түшүрүп, алмаз кристаллдарынын өсүшүнө алып келет.

Алмаздын CVD процесси бир нече артыкчылыктарды сунуштайт, анын ичинде калыңдыгын, бирдейлигин жана курамын так көзөмөлдөө менен жогорку сапаттагы алмаз жабууларын чыгаруу мүмкүнчүлүгү.Ал ошондой эле ар кандай өнөр жай жана илимий-изилдөө колдонмолору үчүн алмаз менен капталган бөлүктөрүн түзүүгө мүмкүндүк берүүчү түрдүү субстрат материалдарына алмаз пленкаларын түшүрүүгө мүмкүндүк берет.

Жалпысынан алганда, алмаздын CVD ыкмасы синтетикалык алмаз пленкаларын жана ыңгайлаштырылган касиеттери бар каптоолорду өндүрүү үчүн көп тараптуу жана кеңири колдонулган техника, аларды электроника, кесүүчү шаймандар жана эскирүүгө туруктуу каптамалар сыяктуу тармактарда баалуу кылат.