ಹಲವಾರು ಕಾರಣಗಳಿಗಾಗಿ ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (PVD) ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಅನ್ನು ಗುರಿಯಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ:

1. ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು: ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಎಲ್ಲಾ ಲೋಹಗಳಲ್ಲಿ ಅತಿ ಹೆಚ್ಚು ಕರಗುವ ಬಿಂದುವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉಂಟಾಗುವ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ತಡೆದುಕೊಳ್ಳಲು ಇದು ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.ಇದು ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಗುರಿಯನ್ನು ಉಷ್ಣ ಒತ್ತಡವನ್ನು ತಡೆದುಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅದರ ರಚನಾತ್ಮಕ ಸಮಗ್ರತೆಯನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ.

2. ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆ: ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಶಾಖವನ್ನು ಹೊರಹಾಕಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಗುರಿ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ಫಿಲ್ಮ್ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಈ ಆಸ್ತಿ ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ.

3. ರಾಸಾಯನಿಕವಾಗಿ ಜಡ: ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳು ಮತ್ತು ತುಕ್ಕುಗೆ ಬಲವಾದ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಇದು PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ.PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲಗಳು ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದ ಉಪಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಗುರಿ ವಸ್ತುವು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರಬೇಕು.

4. ಚಲನಚಿತ್ರ ಗುಣಮಟ್ಟ: ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಗುರಿಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ, ಏಕರೂಪತೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರಗಳಿಗೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯಂತಹ ಆದರ್ಶ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮ-ಗುಣಮಟ್ಟದ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದು, ಇದು ವ್ಯಾಪಕ ಶ್ರೇಣಿಯ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಒಟ್ಟಾರೆಯಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು, ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆ ಸೇರಿದಂತೆ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನಿಂದ ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ವಿಶಿಷ್ಟ ಸಂಯೋಜನೆಯು PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಗುರಿ ಆಯ್ಕೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ವಿವಿಧ ಉನ್ನತ-ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಕೈಗಾರಿಕಾ ಅನ್ವಯಗಳು.