ನೀಲಮಣಿ ಒಂದು ಗಟ್ಟಿಯಾದ, ಧರಿಸುವ ನಿರೋಧಕ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ ಬಲವಾದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ, ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕವಾಗಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ನಿಷ್ಕ್ರಿಯವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಆಸಕ್ತಿದಾಯಕ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ನೀಲಮಣಿಯನ್ನು ಅನೇಕ ತಾಂತ್ರಿಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಮುಖ್ಯ ಉದ್ಯಮ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳು ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್. ಇಂದು ಕೈಗಾರಿಕಾ ನೀಲಮಣಿಯ ದೊಡ್ಡ ಭಾಗವನ್ನು ಎಲ್ಇಡಿ ಮತ್ತು ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ತಲಾಧಾರವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ನಂತರ ಕೆಲವು ಉದಾಹರಣೆಗಳನ್ನು ಹೆಸರಿಸಲು ಕೈಗಡಿಯಾರಗಳು, ಮೊಬೈಲ್ ಫೋನ್ ಭಾಗಗಳು ಅಥವಾ ಬಾರ್ ಕೋಡ್ ಸ್ಕ್ಯಾನರ್ಗಳಿಗೆ ಕಿಟಕಿಗಳಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ [1]. ಇಂದು, ನೀಲಮಣಿ ಏಕ ಹರಳುಗಳನ್ನು ಬೆಳೆಯಲು ವಿವಿಧ ವಿಧಾನಗಳು ಲಭ್ಯವಿದೆ, ಉತ್ತಮ ಅವಲೋಕನವನ್ನು ಕಾಣಬಹುದು ಉದಾ [1, 2]. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಮೂರು ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ವಿಧಾನಗಳಾದ ಕೈರೊಪೌಲೋಸ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ (KY), ಶಾಖ-ವಿನಿಮಯ ವಿಧಾನ (HEM) ಮತ್ತು ಅಂಚಿನ-ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿತ ಫಿಲ್ಮ್-ಫೆಡ್ ಗ್ರೋತ್ (EFG) ವಿಶ್ವದಾದ್ಯಂತ ನೀಲಮಣಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ 90% ಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು.

ಕೃತಕವಾಗಿ ತಯಾರಿಸಿದ ಸ್ಫಟಿಕಕ್ಕಾಗಿ ಮೊದಲ ಪ್ರಯತ್ನವನ್ನು 1877 ರಲ್ಲಿ ಸಣ್ಣ ಮಾಣಿಕ್ಯ ಏಕ ಹರಳುಗಳಿಗಾಗಿ ಮಾಡಲಾಯಿತು [2]. 1926 ರಲ್ಲಿ ಕೈರೊಪೌಲೋಸ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲಾಯಿತು. ಇದು ನಿರ್ವಾತದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ದೊಡ್ಡ ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ಬೌಲ್‌ಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಮತ್ತೊಂದು ಕುತೂಹಲಕಾರಿ ನೀಲಮಣಿ ಬೆಳೆಯುವ ವಿಧಾನವೆಂದರೆ ಎಡ್ಜ್-ಡಿಫೈನ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್-ಫೆಡ್ ಬೆಳವಣಿಗೆ. EFG ತಂತ್ರವು ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿ ಚಾನಲ್ ಅನ್ನು ಆಧರಿಸಿದೆ, ಇದು ದ್ರವ-ಕರಗುವಿಕೆಯಿಂದ ತುಂಬಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ರಾಡ್‌ಗಳು, ಟ್ಯೂಬ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಹಾಳೆಗಳಂತಹ ಆಕಾರದ ನೀಲಮಣಿ ಹರಳುಗಳನ್ನು (ರಿಬ್ಬನ್‌ಗಳು ಎಂದೂ ಕರೆಯುತ್ತಾರೆ) ಬೆಳೆಯಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನಗಳಿಗೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ 1960 ರ ದಶಕದ ಉತ್ತರಾರ್ಧದಲ್ಲಿ ಜನಿಸಿದ ಶಾಖ-ವಿನಿಮಯ ವಿಧಾನವು ಕೆಳಭಾಗದಿಂದ ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಲಾದ ಶಾಖವನ್ನು ಹೊರತೆಗೆಯುವ ಮೂಲಕ ನೂಲುವ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನ ಆಕಾರದಲ್ಲಿ ದೊಡ್ಡ ನೀಲಮಣಿ ಬೌಲ್‌ಗಳನ್ನು ಬೆಳೆಯಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ. ನೀಲಮಣಿ ಬೌಲ್ ಬೆಳೆಯುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವುದರಿಂದ, ತಣ್ಣನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಬೌಲ್‌ಗಳು ಬಿರುಕು ಬಿಡಬಹುದು ಮತ್ತು ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಅನ್ನು ಒಮ್ಮೆ ಮಾತ್ರ ಬಳಸಬಹುದು.
ಈ ನೀಲಮಣಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳೆಯುವ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳಲ್ಲಿ ಯಾವುದಾದರೂ ಕೋರ್ ಘಟಕಗಳು - ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳು - ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಲೋಹಗಳ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ವಿಧಾನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳನ್ನು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಅಥವಾ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಲೋಹಗಳನ್ನು ಪ್ರತಿರೋಧಕ ಹೀಟರ್‌ಗಳು, ಡೈ-ಪ್ಯಾಕ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಹಾಟ್-ಝೋನ್ ಶೀಲ್ಡಿಂಗ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ [1]. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಲೇಖನದಲ್ಲಿ ನಾವು KY ಮತ್ತು EFG ಸಂಬಂಧಿತ ವಿಷಯಗಳ ಮೇಲೆ ನಮ್ಮ ಚರ್ಚೆಯನ್ನು ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುತ್ತೇವೆ ಏಕೆಂದರೆ ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟೆಡ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಈ ವರದಿಯಲ್ಲಿ ನಾವು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ (Mo), ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ (W) ಮತ್ತು ಅದರ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು (MoW) ನಂತಹ ಒತ್ತುವ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ಕುರಿತು ವಸ್ತು ಗುಣಲಕ್ಷಣ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಮತ್ತು ತನಿಖೆಗಳನ್ನು ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸುತ್ತೇವೆ. ಮೊದಲ ಭಾಗದಲ್ಲಿ ನಮ್ಮ ಗಮನವು ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ದತ್ತಾಂಶದ ಮೇಲೆ ಇರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸುಲಭವಾಗಿ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಗೆ ಪೂರಕವಾಗಿ ನಾವು ಥರ್ಮೋ-ಫಿಸಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದ್ದೇವೆ, ಅಂದರೆ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯ ಗುಣಾಂಕ. ಎರಡನೇ ಭಾಗದಲ್ಲಿ ನಾವು ಅಲ್ಯೂಮಿನಾ ಕರಗುವಿಕೆಯಿಂದ ತುಂಬಿದ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ತಂತ್ರದ ಅಧ್ಯಯನಗಳನ್ನು ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸುತ್ತೇವೆ. ಮೂರನೇ ಭಾಗದಲ್ಲಿ 2100 °C ನಲ್ಲಿ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಲೋಹಗಳ ಮೇಲೆ ದ್ರವ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾದ ತೇವ ಕೋನಗಳ ಅಳತೆಗಳ ಬಗ್ಗೆ ನಾವು ವರದಿ ಮಾಡುತ್ತೇವೆ. ನಾವು Mo, W ಮತ್ತು MoW25 ಮಿಶ್ರಲೋಹದ (75 wt.% ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್, 25 wt.% ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್) ಮೇಲೆ ಕರಗುವ-ಹನಿ ಪ್ರಯೋಗಗಳನ್ನು ನಡೆಸಿದ್ದೇವೆ ಮತ್ತು ವಿವಿಧ ವಾತಾವರಣದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳ ಮೇಲಿನ ಅವಲಂಬನೆಗಳನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದ್ದೇವೆ. ನಮ್ಮ ತನಿಖೆಗಳ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ನಾವು ನೀಲಮಣಿ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳಲ್ಲಿ ಆಸಕ್ತಿದಾಯಕ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಮತ್ತು ಶುದ್ಧ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಮತ್ತು ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ಗೆ ಸಂಭಾವ್ಯ ಪರ್ಯಾಯವಾಗಿ MoW ಅನ್ನು ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸುತ್ತೇವೆ.
ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು
ನೀಲಮಣಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ವಿಧಾನಗಳು KY ಮತ್ತು EFG ಪ್ರಪಂಚದ ನೀಲಮಣಿಯ ಪ್ರಮಾಣ ಪಾಲನ್ನು 85% ಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಸುಲಭವಾಗಿ ಪೂರೈಸುತ್ತವೆ. ಎರಡೂ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ, ದ್ರವ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾವನ್ನು ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ KY ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನಿಂದ ಮಾಡಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ ಮತ್ತು EFG ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್‌ನಿಂದ ಮಾಡಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ. ಈ ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳು ನಿರ್ಣಾಯಕ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಭಾಗಗಳಾಗಿವೆ. KY ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಉದ್ದೇಶದಿಂದ ಮತ್ತು EFG ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳ ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಉದ್ದೇಶದಿಂದ, ನಾವು ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ ಎರಡು MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಿದ್ದೇವೆ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷಿಸಿದ್ದೇವೆ, ಅಂದರೆ MoW30 70 wt.% Mo ಮತ್ತು 30 wt. % W ಮತ್ತು MoW50 ಪ್ರತಿ 50 wt.% Mo ಮತ್ತು W.
ಎಲ್ಲಾ ವಸ್ತು ಗುಣಲಕ್ಷಣ ಅಧ್ಯಯನಗಳಿಗಾಗಿ ನಾವು Mo, MoW30, MoW50 ಮತ್ತು W. ಟೇಬಲ್ I ರ ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಇಂಗೋಟ್‌ಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಿದ್ದೇವೆ.

ಕೋಷ್ಟಕ I: ಯಾಂತ್ರಿಕ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ-ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮಾಪನಗಳಿಗಾಗಿ ಬಳಸಿದ ಒತ್ತಿದರೆ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಸಾರಾಂಶ. ವಸ್ತುಗಳ ಆರಂಭಿಕ ಸ್ಥಿತಿಗಳ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಸರಾಸರಿ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಟೇಬಲ್ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ

ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ ಒಡ್ಡಿಕೊಳ್ಳುವುದರಿಂದ, ನಾವು ವಿಶೇಷವಾಗಿ 1000 °C ಮತ್ತು 2100 °C ನಡುವಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ವಿಸ್ತಾರವಾದ ಕರ್ಷಕ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳನ್ನು ನಡೆಸಿದ್ದೇವೆ. ಚಿತ್ರ 1 Mo, MoW30, ಮತ್ತು MoW50 ಗಾಗಿ ಈ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ 0.2 % ಇಳುವರಿ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ (Rp0.2) ಮತ್ತು ಮುರಿತಕ್ಕೆ (A) ಉದ್ದವನ್ನು ತೋರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಹೋಲಿಕೆಗಾಗಿ, 2100 °C ನಲ್ಲಿ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ W ನ ಡೇಟಾ ಪಾಯಿಂಟ್ ಅನ್ನು ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್‌ನಲ್ಲಿನ ಆದರ್ಶ ಘನ-ಕರಗುವ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ಗೆ ಶುದ್ಧ ಮೋ ವಸ್ತುವಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ Rp0.2 ಹೆಚ್ಚಾಗುವ ನಿರೀಕ್ಷೆಯಿದೆ. 1800 °C ವರೆಗಿನ ತಾಪಮಾನಗಳಿಗೆ MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು Mo ಗಿಂತ ಕನಿಷ್ಠ 2 ಪಟ್ಟು ಹೆಚ್ಚಿನ Rp0.2 ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ, ಚಿತ್ರ 1(a) ನೋಡಿ. ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಗಳಿಗೆ ಮಾತ್ರ MoW50 ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿತ Rp0.2 ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ W 2100 °C ನಲ್ಲಿ ಅತ್ಯಧಿಕ Rp0.2 ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಕರ್ಷಕ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು ಚಿತ್ರ 1 (b) ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ A ಅನ್ನು ಸಹ ಬಹಿರಂಗಪಡಿಸುತ್ತವೆ. MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳೆರಡೂ ಮುರಿತದ ಮೌಲ್ಯಗಳಿಗೆ ಸಮಾನವಾದ ವಿಸ್ತರಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ, ಅವುಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ Mo ನ ಅರ್ಧದಷ್ಟು ಮೌಲ್ಯಗಳಾಗಿವೆ. 2100 °C ನಲ್ಲಿ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ನ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ A ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಅದರ ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾದ ರಚನೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ.
ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ ಡಕ್ಟೈಲ್ ಟು ಬ್ರಿಟಲ್ ಟ್ರಾನ್ಸಿಷನ್ ತಾಪಮಾನ (DBTT) ಅನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಲು, ಬಾಗುವ ಕೋನದ ಮೇಲಿನ ಅಳತೆಗಳನ್ನು ವಿವಿಧ ಪರೀಕ್ಷಾ ತಾಪಮಾನಗಳಲ್ಲಿ ನಡೆಸಲಾಯಿತು. ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಚಿತ್ರ 2 ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ವಿಷಯದೊಂದಿಗೆ DBTT ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ. Mo ನ DBTT ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ 250 °C ನಲ್ಲಿ ಕಡಿಮೆಯಿದ್ದರೆ, MoW30 ಮತ್ತು MoW50 ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು ಕ್ರಮವಾಗಿ ಸರಿಸುಮಾರು 450 °C ಮತ್ತು 550 °C DBTT ಅನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ.

ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಗೆ ಪೂರಕವಾಗಿ ನಾವು ಥರ್ಮೋ-ಫಿಸಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸಹ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡುತ್ತೇವೆ. ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆಯ ಗುಣಾಂಕವನ್ನು (CTE) ಪುಶ್-ರಾಡ್ ಡೈಲಾಟೋಮೀಟರ್ [3] ನಲ್ಲಿ 1600 °C ವರೆಗಿನ ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ Ø5 mm ಮತ್ತು 25 mm ಉದ್ದದ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. CTE ಮಾಪನಗಳನ್ನು ಚಿತ್ರ 3 ರಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಎಲ್ಲಾ ವಸ್ತುಗಳು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ CTE ಯ ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ. MoW30 ಮತ್ತು MoW50 ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ CTE ಮೌಲ್ಯಗಳು Mo ಮತ್ತು W ನ ಮೌಲ್ಯಗಳ ನಡುವೆ ಇವೆ. ಏಕೆಂದರೆ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಉಳಿದ ಸರಂಧ್ರತೆಯು ಅಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಸಣ್ಣ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ರಂಧ್ರಗಳೊಂದಿಗೆ, ಪಡೆದ CTE ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ವಸ್ತುಗಳಂತೆ ಹಾಳೆಗಳು ಮತ್ತು ರಾಡ್ಗಳು [4].
ಲೇಸರ್ ಫ್ಲ್ಯಾಷ್ ವಿಧಾನವನ್ನು [5, 6] ಬಳಸಿಕೊಂಡು Ø12.7 mm ಮತ್ತು 3.5 mm ದಪ್ಪವಿರುವ ಮಾದರಿಯ ಥರ್ಮಲ್ ಡಿಫ್ಯೂಸಿವಿಟಿ ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಶಾಖ ಎರಡನ್ನೂ ಅಳೆಯುವ ಮೂಲಕ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗಿದೆ. ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳಂತಹ ಐಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ, ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಶಾಖವನ್ನು ಅದೇ ವಿಧಾನದಿಂದ ಅಳೆಯಬಹುದು. 25 °C ಮತ್ತು 1000 °C ನಡುವಿನ ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಅಳತೆಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಲಾಗಿದೆ. ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಲೆಕ್ಕಾಚಾರ ಮಾಡಲು ನಾವು ಕೋಷ್ಟಕ I ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ವಸ್ತುಗಳ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ ಬಳಸುತ್ತೇವೆ ಮತ್ತು ತಾಪಮಾನದ ಸ್ವತಂತ್ರ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಊಹಿಸುತ್ತೇವೆ. ಚಿತ್ರ 4 ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ Mo, MoW30, MoW50 ಮತ್ತು W. ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಗಾಗಿ ಉಂಟಾಗುವ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ

MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು ತನಿಖೆ ಮಾಡಿದ ಎಲ್ಲಾ ತಾಪಮಾನಗಳಿಗೆ 100 W/mK ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಮತ್ತು ಶುದ್ಧ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಮತ್ತು ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್‌ಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ತುಂಬಾ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ. ಜೊತೆಗೆ, MoW ಮತ್ತು W ನ ವಾಹಕತೆಗಳು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತವೆ ಆದರೆ MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ವಾಹಕತೆಯು ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.
ಈ ವ್ಯತ್ಯಾಸದ ಕಾರಣವನ್ನು ಈ ಕೆಲಸದಲ್ಲಿ ತನಿಖೆ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಭವಿಷ್ಯದ ತನಿಖೆಯ ಭಾಗವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಲೋಹಗಳಿಗೆ ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯ ಪ್ರಮುಖ ಭಾಗವು ಫೋನಾನ್ ಕೊಡುಗೆಯಾಗಿದೆ ಎಂದು ತಿಳಿದಿದೆ ಆದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಅನಿಲವು ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯ ಮೇಲೆ ಪ್ರಾಬಲ್ಯ ಹೊಂದಿದೆ [7]. ಫೋನಾನ್‌ಗಳು ವಸ್ತುವಿನ ಅಪೂರ್ಣತೆಗಳು ಮತ್ತು ದೋಷಗಳಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿವೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯ ಹೆಚ್ಚಳವು MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳಿಗೆ ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ ಇತರ ಘನ-ಪರಿಹಾರ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಸಹ ಕಂಡುಬರುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್-ರೀನಿಯಮ್ [8], ಅಲ್ಲಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕೊಡುಗೆಯು ಪ್ರಮುಖ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ.
ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಮತ್ತು ಥರ್ಮೋ-ಫಿಸಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಹೋಲಿಕೆಯು ನೀಲಮಣಿ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ MoW ಆಸಕ್ತಿದಾಯಕ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ > 2000 °C ಇಳುವರಿ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್‌ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳ ದೀರ್ಘಾವಧಿಯ ಜೀವಿತಾವಧಿಯು ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯವಾಗಿರಬೇಕು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ವಸ್ತುವು ಹೆಚ್ಚು ಸುಲಭವಾಗಿ ಆಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಯಂತ್ರ ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಣೆಯನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸಬೇಕು. ಚಿತ್ರ 4 ರಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಒತ್ತಿದರೆ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ MoW ನ ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾದ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯು ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ಕುಲುಮೆಯ ಅಳವಡಿಸಲಾದ ಶಾಖ-ಅಪ್ ಮತ್ತು ತಂಪಾಗಿಸುವ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ಅಗತ್ಯವಾಗಬಹುದು ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಹೀಟ್-ಅಪ್ ಹಂತದಲ್ಲಿ, ಅಲ್ಯೂಮಿನಾವನ್ನು ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನಲ್ಲಿ ಕರಗಿಸಬೇಕಾದರೆ, ಶಾಖವನ್ನು ಅದರ ಕಚ್ಚಾ ತುಂಬುವ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಮೂಲಕ ಮಾತ್ರ ಸಾಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಷ್ಣ ಒತ್ತಡವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು MoW ನ ಕಡಿಮೆಯಾದ ಉಷ್ಣ ವಾಹಕತೆಯನ್ನು ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು. MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ CTE ಮೌಲ್ಯಗಳ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು HEM ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ವಿಧಾನದ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ ಆಸಕ್ತಿದಾಯಕವಾಗಿದೆ. ಉಲ್ಲೇಖದಲ್ಲಿ ಚರ್ಚಿಸಿದಂತೆ [9] Mo ನ CTE ತಂಪಾಗಿಸುವ ಹಂತದಲ್ಲಿ ನೀಲಮಣಿಯ ಕ್ಲ್ಯಾಂಪ್‌ಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, MoW ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಕಡಿಮೆಯಾದ CTE HEM ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಮರು-ಬಳಕೆ ಮಾಡಬಹುದಾದ ಸ್ಪನ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳನ್ನು ಅರಿತುಕೊಳ್ಳಲು ಪ್ರಮುಖವಾಗಿದೆ.
ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ರಿಫ್ರ್ಯಾಕ್ಟರಿ ಲೋಹಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್
ಪೀಠಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಚರ್ಚಿಸಿದಂತೆ, 2050 °C ಗಿಂತ ಸ್ವಲ್ಪಮಟ್ಟಿಗೆ ಅಲ್ಯುಮಿನಾವನ್ನು ಬಿಸಿಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಕರಗಿಸಲು ನೀಲಮಣಿ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅಂತಿಮ ನೀಲಮಣಿ ಸ್ಫಟಿಕದ ಗುಣಮಟ್ಟಕ್ಕೆ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಅವಶ್ಯಕತೆಯೆಂದರೆ ಕರಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಕಲ್ಮಶಗಳು ಮತ್ತು ಅನಿಲ ಗುಳ್ಳೆಗಳನ್ನು ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಇಡುವುದು. ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಭಾಗಗಳು ಉಳಿದಿರುವ ಸರಂಧ್ರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಸೂಕ್ಷ್ಮ-ಧಾನ್ಯದ ರಚನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ. ಮುಚ್ಚಿದ ಸರಂಧ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಈ ಸೂಕ್ಷ್ಮ-ಧಾನ್ಯದ ರಚನೆಯು ಲೋಹದ ವರ್ಧಿತ ತುಕ್ಕುಗೆ ದುರ್ಬಲವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಆಕ್ಸಿಡಿಕ್ ಕರಗುವಿಕೆಯಿಂದ. ನೀಲಮಣಿ ಹರಳುಗಳಿಗೆ ಮತ್ತೊಂದು ಸಮಸ್ಯೆ ಎಂದರೆ ಕರಗುವ ಒಳಗೆ ಸಣ್ಣ ಅನಿಲ ಗುಳ್ಳೆಗಳು. ಕರಗುವಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಸಂಪರ್ಕದಲ್ಲಿರುವ ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಭಾಗದ ಹೆಚ್ಚಿದ ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನದಿಂದ ಅನಿಲ ಗುಳ್ಳೆಗಳ ರಚನೆಯು ವರ್ಧಿಸುತ್ತದೆ.

ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಈ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ನಿವಾರಿಸಲು ನಾವು ಯಾಂತ್ರಿಕ ಮೇಲ್ಮೈ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತೇವೆ. ಸೆರಾಮಿಕ್ ಸಾಧನವು ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಭಾಗದ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಒತ್ತಡದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಕೆಲಸ ಮಾಡುವ ಒತ್ತುವ ಸಾಧನದೊಂದಿಗೆ ನಾವು ವಿಧಾನವನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಿದ್ದೇವೆ [10]. ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಒತ್ತುವ ಒತ್ತಡವು ಈ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಉಪಕರಣದ ಸಂಪರ್ಕ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ವಿಲೋಮವಾಗಿ ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಳೀಯವಾಗಿ ಒತ್ತುವ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತುವ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಆಗಿ ವಿರೂಪಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಚಿತ್ರ 5 ಈ ತಂತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಕೆಲಸ ಮಾಡಿದ ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಮಾದರಿಯ ಉದಾಹರಣೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.
ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡದ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಒತ್ತುವ ಒತ್ತಡದ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಗುಣಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಚಿತ್ರ 6 ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ನಲ್ಲಿನ ಉಪಕರಣದ ಸ್ಥಿರ ಮುದ್ರೆಗಳ ಮಾಪನಗಳಿಂದ ಡೇಟಾವನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗಿದೆ. ರೇಖೆಯು ನಮ್ಮ ಮಾದರಿಯ ಪ್ರಕಾರ ಡೇಟಾಗೆ ಹೊಂದಿಕೆಯಾಗುವುದನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ.

ಚಿತ್ರ 7 ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಗಡಸುತನದ ಮಾಪನಗಳಿಗೆ ಸಂಕ್ಷೇಪಿಸಿದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಡಿಸ್ಕ್‌ಗಳಾಗಿ ತಯಾರಿಸಲಾದ ವಿವಿಧ ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡದ ಕಾರ್ಯವಾಗಿ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಚಿತ್ರ 7 (ಎ) ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯು ಮೇಲ್ಮೈಯ ಗಟ್ಟಿಯಾಗುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. Mo ಮತ್ತು MoW30 ಎರಡೂ ಪರೀಕ್ಷಿತ ವಸ್ತುಗಳ ಗಡಸುತನವು ಸುಮಾರು 150% ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ಗಡಸುತನವು ಮತ್ತಷ್ಟು ಹೆಚ್ಚಾಗುವುದಿಲ್ಲ. Mo ಗೆ 0.1 μm ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿರುವ Ra ಹೊಂದಿರುವ ಹೆಚ್ಚು ನಯವಾದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ಸಾಧ್ಯವೆಂದು ಚಿತ್ರ 7(b) ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ಮೊ ಒರಟುತನ ಮತ್ತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ. MoW30 (ಮತ್ತು W) Mo ಗಿಂತ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿರುವುದರಿಂದ, MoW30 ಮತ್ತು W ಗಳ ಸಾಧಿಸಿದ Ra ಮೌಲ್ಯಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ Mo ಗಿಂತ 2-3 ಪಟ್ಟು ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ. Mo ಗೆ ವಿರುದ್ಧವಾಗಿ, W ನ ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸುವ ಮೂಲಕ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ಪರೀಕ್ಷಿತ ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್ ಶ್ರೇಣಿ.
ನಿಯಮಾಧೀನ ಮೇಲ್ಮೈಗಳ ನಮ್ಮ ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ (SEM) ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನದ ಡೇಟಾವನ್ನು ದೃಢೀಕರಿಸುತ್ತವೆ, ಚಿತ್ರ 7 (b) ನೋಡಿ. ಚಿತ್ರ 8(a) ನಲ್ಲಿ ಚಿತ್ರಿಸಿದಂತೆ, ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡವು ಧಾನ್ಯದ ಮೇಲ್ಮೈ ಹಾನಿ ಮತ್ತು ಮೈಕ್ರೋಕ್ರ್ಯಾಕ್‌ಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು. ಹೆಚ್ಚಿನ ಮೇಲ್ಮೈ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಧಾನ್ಯವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಚಿತ್ರ 8(b) ನೋಡಿ. ಕೆಲವು ಯಂತ್ರ ನಿಯತಾಂಕಗಳಲ್ಲಿ MoW ಮತ್ತು W ಗಾಗಿ ಇದೇ ರೀತಿಯ ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಸಹ ಗಮನಿಸಬಹುದು.
ಮೇಲ್ಮೈ ಧಾನ್ಯ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಅದರ ತಾಪಮಾನ ವರ್ತನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ತಂತ್ರದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲು, ನಾವು Mo, MoW30 ಮತ್ತು W ನ ಮೂರು ಪರೀಕ್ಷಾ ಡಿಸ್ಕ್‌ಗಳಿಂದ ಅನೆಲಿಂಗ್ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ಸಿದ್ಧಪಡಿಸಿದ್ದೇವೆ.

ಮಾದರಿಗಳನ್ನು 800 °C ನಿಂದ 2000 °C ವರೆಗಿನ ವಿವಿಧ ಪರೀಕ್ಷಾ ತಾಪಮಾನಗಳಲ್ಲಿ 2 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ ಸಂಸ್ಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಸೂಕ್ಷ್ಮದರ್ಶಕ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಗಾಗಿ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ವಿಭಾಗಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲಾಯಿತು.
ಚಿತ್ರ 9 ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ನ ಮೈಕ್ರೋಸೆಕ್ಷನ್ ಉದಾಹರಣೆಗಳನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಸಂಸ್ಕರಿಸಿದ ಮೇಲ್ಮೈಯ ಆರಂಭಿಕ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಚಿತ್ರ 9 (ಎ) ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ. ಮೇಲ್ಮೈ ಸುಮಾರು 200 μm ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಬಹುತೇಕ ದಟ್ಟವಾದ ಪದರವನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಪದರದ ಕೆಳಗೆ ಸಿಂಟರಿಂಗ್ ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ವಸ್ತು ರಚನೆಯು ಗೋಚರಿಸುತ್ತದೆ, ಉಳಿದಿರುವ ಸರಂಧ್ರತೆಯು ಸುಮಾರು 5% ಆಗಿದೆ. ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದೊಳಗೆ ಅಳತೆ ಮಾಡಿದ ಉಳಿದ ಸರಂಧ್ರತೆಯು 1% ಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ. ಚಿತ್ರ 9(b) 1700 °C ನಲ್ಲಿ 2 ಗಂಟೆಗಳ ಕಾಲ ಅನೆಲಿಂಗ್ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ಧಾನ್ಯದ ರಚನೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ದಟ್ಟವಾದ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪವು ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್‌ನಿಂದ ಮಾರ್ಪಡಿಸದ ಪರಿಮಾಣದಲ್ಲಿನ ಧಾನ್ಯಗಳಿಗಿಂತ ಧಾನ್ಯಗಳು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ದೊಡ್ಡದಾಗಿರುತ್ತವೆ. ಈ ಒರಟಾದ-ಧಾನ್ಯದ ಹೆಚ್ಚು ದಟ್ಟವಾದ ಪದರವು ವಸ್ತುವಿನ ಕ್ರೀಪ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿರುತ್ತದೆ.
ವಿವಿಧ ಉಪಕರಣದ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ದಪ್ಪ ಮತ್ತು ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ತಾಪಮಾನ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ನಾವು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದ್ದೇವೆ. Mo ಮತ್ತು MoW30 ಗಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪಕ್ಕೆ ಪ್ರಾತಿನಿಧಿಕ ಉದಾಹರಣೆಗಳನ್ನು ಚಿತ್ರ 10 ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಚಿತ್ರ 10 (a) ನಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಿದಂತೆ ಆರಂಭಿಕ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪವು ಯಂತ್ರೋಪಕರಣಗಳ ಸೆಟಪ್ ಅನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. 800 °C ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅನೆಲಿಂಗ್ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ Mo ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪವು ಹೆಚ್ಚಾಗಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತದೆ. 2000 °C ನಲ್ಲಿ ಪದರದ ದಪ್ಪವು 0.3 ರಿಂದ 0.7 ಮಿಮೀ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ. MoW30 ಗಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪದ ಹೆಚ್ಚಳವನ್ನು ಚಿತ್ರ 10(b) ತೋರಿಸಿರುವಂತೆ 1500 °C ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರ ಗಮನಿಸಬಹುದು. ಅದೇನೇ ಇದ್ದರೂ 2000 °C ನಲ್ಲಿ MoW30 ಪದರದ ದಪ್ಪವು Mo ಗೆ ಹೋಲುತ್ತದೆ.

ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ದಪ್ಪದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯಂತೆ, ಚಿತ್ರ 11 Mo ಮತ್ತು MoW30 ಗಾಗಿ ಸರಾಸರಿ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರದ ಡೇಟಾವನ್ನು ಅನೆಲಿಂಗ್ ತಾಪಮಾನದ ಕಾರ್ಯವಾಗಿ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದಲ್ಲಿ ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅಂಕಿಅಂಶಗಳಿಂದ ಊಹಿಸಬಹುದಾದಂತೆ, ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವು - ಮಾಪನ ಅನಿಶ್ಚಿತತೆಯೊಳಗೆ - ಅನ್ವಯಿಕ ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್ ಸೆಟಪ್ನಿಂದ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿದೆ. ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರದ ಬೆಳವಣಿಗೆಯು ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ರದೇಶದ ವಿರೂಪದಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದ ಅಸಹಜ ಧಾನ್ಯ ಬೆಳವಣಿಗೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಧಾನ್ಯಗಳು 1100 °C ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪರೀಕ್ಷಾ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಆರಂಭಿಕ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರಕ್ಕೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವು 2000 °C ನಲ್ಲಿ ಸುಮಾರು 3 ಪಟ್ಟು ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ. ಮೇಲ್ಮೈ ನಿಯಮಾಧೀನ ಪದರದ MoW30 ಧಾನ್ಯಗಳು 1500 °C ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತವೆ. 2000 °C ನ ಪರೀಕ್ಷಾ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸರಾಸರಿ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವು ಆರಂಭಿಕ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರಕ್ಕಿಂತ 2 ಪಟ್ಟು ಹೆಚ್ಚು.
ಸಾರಾಂಶದಲ್ಲಿ, ಮೇಲ್ಮೈ ಕಂಡೀಷನಿಂಗ್ ತಂತ್ರದ ಮೇಲಿನ ನಮ್ಮ ತನಿಖೆಗಳು ಒತ್ತಿದ-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳಿಗೆ ಚೆನ್ನಾಗಿ ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು, ಹೆಚ್ಚಿದ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಮತ್ತು 0.5 μm ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿರುವ Ra ಹೊಂದಿರುವ ನಯವಾದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು. ನಂತರದ ಆಸ್ತಿಯು ಗ್ಯಾಸ್ ಬಬಲ್ ಕಡಿತಕ್ಕೆ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಪ್ರಯೋಜನಕಾರಿಯಾಗಿದೆ. ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದಲ್ಲಿ ಉಳಿದಿರುವ ಸರಂಧ್ರತೆಯು ಶೂನ್ಯಕ್ಕೆ ಹತ್ತಿರದಲ್ಲಿದೆ. ಅನೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಮೈಕ್ರೊಸೆಕ್ಷನ್ ಅಧ್ಯಯನಗಳು 500 μm ನ ವಿಶಿಷ್ಟ ದಪ್ಪವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಹೆಚ್ಚು ದಟ್ಟವಾದ ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರವನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಮೂಲಕ ಮ್ಯಾಚಿಂಗ್ ಪ್ಯಾರಾಮೀಟರ್ ಪದರದ ದಪ್ಪವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದು. ನೀಲಮಣಿ ಬೆಳೆಯುವ ವಿಧಾನಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸಿದಂತೆ ನಿಯಮಾಧೀನ ವಸ್ತುವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ಒಡ್ಡಿದಾಗ, ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರವು ಮೇಲ್ಮೈ ಯಂತ್ರವಿಲ್ಲದೆ 2-3 ಪಟ್ಟು ದೊಡ್ಡದಾದ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರದೊಂದಿಗೆ ಒರಟಾದ-ಧಾನ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ. ಮೇಲ್ಮೈ ಪದರದಲ್ಲಿನ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವು ಮ್ಯಾಚಿಂಗ್ ನಿಯತಾಂಕಗಳಿಂದ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿದೆ. ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಧಾನ್ಯದ ಗಡಿಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಧಾನ್ಯದ ಗಡಿಗಳ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಅಂಶಗಳ ಪ್ರಸರಣದ ವಿರುದ್ಧ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರತಿರೋಧಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕರಗುವ ದಾಳಿಯು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಪ್ರೆಸ್ಡ್-ಸಿಂಟರ್ಡ್ ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಕ್ರೀಪ್ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲಾಗಿದೆ.

ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಲೋಹಗಳ ಮೇಲೆ ದ್ರವ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾವನ್ನು ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಅಧ್ಯಯನಗಳು
ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಅಥವಾ ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮೇಲೆ ದ್ರವ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾವನ್ನು ತೇವಗೊಳಿಸುವುದು ನೀಲಮಣಿ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಮೂಲಭೂತ ಆಸಕ್ತಿಯಾಗಿದೆ. ವಿಶೇಷವಾಗಿ EFG ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗೆ ಡೈ-ಪ್ಯಾಕ್ ಕ್ಯಾಪಿಲ್ಲರಿಗಳಲ್ಲಿನ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ನಡವಳಿಕೆಯು ನೀಲಮಣಿ ರಾಡ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ರಿಬ್ಬನ್‌ಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ದರವನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ. ಆಯ್ದ ವಸ್ತು, ಮೇಲ್ಮೈ ಒರಟುತನ ಅಥವಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಾತಾವರಣದ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ನಾವು ವಿವರವಾದ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನ ಮಾಪನಗಳನ್ನು ನಡೆಸಿದ್ದೇವೆ [11].
ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಮಾಪನಗಳಿಗಾಗಿ 1 x 5 x 40 mm³ ಗಾತ್ರದ ಪರೀಕ್ಷಾ ತಲಾಧಾರಗಳನ್ನು Mo, MoW25 ಮತ್ತು W ಶೀಟ್ ವಸ್ತುಗಳಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಯಿತು. ಲೋಹದ ಹಾಳೆಯ ತಲಾಧಾರದ ಮೂಲಕ ಹೆಚ್ಚಿನ ವಿದ್ಯುತ್ ಪ್ರವಾಹವನ್ನು ಕಳುಹಿಸುವ ಮೂಲಕ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾದ 2050 °C ಕರಗುವ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಅರ್ಧ ನಿಮಿಷದಲ್ಲಿ ಸಾಧಿಸಬಹುದು. ಕೋನ ಮಾಪನಗಳಿಗಾಗಿ ಸಣ್ಣ ಅಲ್ಯೂಮಿನಾ ಕಣಗಳನ್ನು ಹಾಳೆಯ ಮಾದರಿಗಳ ಮೇಲೆ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತರುವಾಯ

ಹನಿಗಳಾಗಿ ಕರಗಿದವು. ಒಂದು ಸ್ವಯಂಚಾಲಿತ ಚಿತ್ರಣ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಕರಗುವ ಹನಿಯನ್ನು ಚಿತ್ರ 12 ರಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಿದಂತೆ ರೆಕಾರ್ಡ್ ಮಾಡಿದೆ. ಪ್ರತಿ ಕರಗುವ-ಹನಿ ಪ್ರಯೋಗವು ಹನಿಗಳ ಬಾಹ್ಯರೇಖೆಯನ್ನು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸುವ ಮೂಲಕ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನವನ್ನು ಅಳೆಯಲು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ, ಚಿತ್ರ 12(a) ಅನ್ನು ನೋಡಿ, ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಬೇಸ್‌ಲೈನ್ ಅನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಆಫ್ ಮಾಡಿದ ಸ್ವಲ್ಪ ಸಮಯದ ನಂತರ ತಾಪನ ಪ್ರವಾಹ, ಚಿತ್ರ 12 (ಬಿ) ನೋಡಿ.
ನಾವು ಎರಡು ವಿಭಿನ್ನ ವಾತಾವರಣದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿಗಾಗಿ ಆರ್ದ್ರತೆಯ ಕೋನ ಮಾಪನಗಳನ್ನು ನಡೆಸಿದ್ದೇವೆ, 10-5mbar ನಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಾತ ಮತ್ತು 900 mbar ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ ಆರ್ಗಾನ್. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಎರಡು ಮೇಲ್ಮೈ ಪ್ರಕಾರಗಳನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು, ಅಂದರೆ Ra ~ 1 μm ಹೊಂದಿರುವ ಒರಟು ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ಮತ್ತು Ra ~ 0.1 μm ನ ನಯವಾದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು.
ಮೃದುವಾದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗಾಗಿ Mo, MoW25 ಮತ್ತು W ಗಾಗಿ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನಗಳ ಮೇಲಿನ ಎಲ್ಲಾ ಅಳತೆಗಳ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ಕೋಷ್ಟಕ II ಸಾರಾಂಶಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಇತರ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಮೊ ಒದ್ದೆಯಾಗುವ ಕೋನವು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ. ಇದು ಅಲ್ಯುಮಿನಾ ಕರಗುವಿಕೆಯು Mo ಅನ್ನು ತೇವಗೊಳಿಸುತ್ತಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು EFG ಬೆಳೆಯುವ ತಂತ್ರದಲ್ಲಿ ಪ್ರಯೋಜನಕಾರಿಯಾಗಿದೆ. ಆರ್ಗಾನ್‌ಗಾಗಿ ಪಡೆದ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನಗಳು ನಿರ್ವಾತದ ಕೋನಗಳಿಗಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ. ಒರಟಾದ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಿಗೆ ನಾವು ವ್ಯವಸ್ಥಿತವಾಗಿ ಸ್ವಲ್ಪ ಕಡಿಮೆ ತೇವ ಕೋನಗಳನ್ನು ಕಂಡುಕೊಳ್ಳುತ್ತೇವೆ. ಈ ಮೌಲ್ಯಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕೋಷ್ಟಕ II ರಲ್ಲಿ ನೀಡಲಾದ ಕೋನಗಳಿಗಿಂತ ಸುಮಾರು 2° ಕಡಿಮೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಮಾಪನದ ಅನಿಶ್ಚಿತತೆಯ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ, ನಯವಾದ ಮತ್ತು ಒರಟು ಮೇಲ್ಮೈಗಳ ನಡುವೆ ಯಾವುದೇ ಗಮನಾರ್ಹ ಕೋನ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ವರದಿ ಮಾಡಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ.

ನಾವು ಇತರ ವಾತಾವರಣದ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನಗಳನ್ನು ಅಳೆಯುತ್ತೇವೆ, ಅಂದರೆ 10-5 mbar ಮತ್ತು 900 mbar ನಡುವಿನ ಮೌಲ್ಯಗಳು. ಪ್ರಾಥಮಿಕ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯು 10-5 mbar ಮತ್ತು 1 mbar ನಡುವಿನ ಒತ್ತಡಗಳಿಗೆ ತೇವಗೊಳಿಸುವ ದೇವತೆ ಬದಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ. 900 mbar ಆರ್ಗಾನ್ (ಟೇಬಲ್ II) ನಲ್ಲಿ ಗಮನಿಸಿದಕ್ಕಿಂತ 1 mbar ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ತೇವಗೊಳಿಸುವ ಕೋನವು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ. ವಾತಾವರಣದ ಸ್ಥಿತಿಯ ಹೊರತಾಗಿ, ಅಲ್ಯೂಮಿನಾ ಕರಗುವಿಕೆಯ ಆರ್ದ್ರತೆಯ ವರ್ತನೆಗೆ ಮತ್ತೊಂದು ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶವೆಂದರೆ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡ. ಕರಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಲೋಹದ ತಲಾಧಾರಗಳ ನಡುವಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಂವಹನಗಳು ಸಂಪೂರ್ಣ ಮಾಪನ ಅವಧಿಯೊಳಗೆ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 1 ನಿಮಿಷ) ಸಂಭವಿಸುತ್ತವೆ ಎಂದು ನಮ್ಮ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು ಸೂಚಿಸುತ್ತವೆ. ಕರಗುವ ಹನಿಯ ಬಳಿ ಇರುವ ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುವ ಇತರ ಆಮ್ಲಜನಕ ಘಟಕಗಳಲ್ಲಿ Al2O3 ಅಣುಗಳ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಕರಗಿಸುವುದನ್ನು ನಾವು ಅನುಮಾನಿಸುತ್ತೇವೆ. ಒದ್ದೆಯಾಗುವ ಕೋನದ ಒತ್ತಡದ ಅವಲಂಬನೆ ಮತ್ತು ವಕ್ರೀಭವನದ ಲೋಹಗಳೊಂದಿಗೆ ಕರಗುವ ರಾಸಾಯನಿಕ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಗಳೆರಡನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚು ವಿವರವಾಗಿ ತನಿಖೆ ಮಾಡಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಪ್ರಸ್ತುತ ನಡೆಯುತ್ತಿವೆ.