ವಜ್ರದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD) ವಿಧಾನವು ನಿಯಂತ್ರಿತ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ಡೈಮಂಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅಥವಾ ಲೇಪನವನ್ನು ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ.ಈ ವಿಧಾನದಲ್ಲಿ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಮೀಥೇನ್‌ನಂತಹ ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಅನಿಲ ಮಿಶ್ರಣವನ್ನು ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ವೇಫರ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಡೈಮಂಡ್ ವೇಫರ್‌ಗಳಂತಹ ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಕೋಣೆಗೆ ಪರಿಚಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಅನಿಲವನ್ನು ನಂತರ ಶಾಖ ಅಥವಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದಂತಹ ವಿವಿಧ ವಿಧಾನಗಳಿಂದ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್ ಅಣುಗಳನ್ನು ವಿಭಜಿಸಲು ಮತ್ತು ಇಂಗಾಲದ ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು, ವಜ್ರದ ಹರಳುಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.

ವಜ್ರದ CVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ದಪ್ಪ, ಏಕರೂಪತೆ ಮತ್ತು ಸಂಯೋಜನೆಯ ನಿಖರವಾದ ನಿಯಂತ್ರಣದೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ವಜ್ರದ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ಹಲವಾರು ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.ಇದು ವಿವಿಧ ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲೆ ಡೈಮಂಡ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ, ವಿವಿಧ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಮತ್ತು ಸಂಶೋಧನಾ ಅನ್ವಯಗಳಿಗೆ ಡೈಮಂಡ್-ಲೇಪಿತ ಭಾಗಗಳನ್ನು ರಚಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ.

ಒಟ್ಟಾರೆಯಾಗಿ, ವಜ್ರದ CVD ವಿಧಾನವು ಸಿಂಥೆಟಿಕ್ ಡೈಮಂಡ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಕಸ್ಟಮೈಸ್ ಮಾಡಿದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳೊಂದಿಗೆ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಬಹುಮುಖ ಮತ್ತು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ತಂತ್ರವಾಗಿದೆ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಉಡುಗೆ-ನಿರೋಧಕ ಲೇಪನಗಳಂತಹ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ಅವುಗಳನ್ನು ಮೌಲ್ಯಯುತವಾಗಿಸುತ್ತದೆ.