ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಗೆ (PVD) ಬಳಸುವ ವಸ್ತುಗಳು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಮತ್ತು ಅಪೇಕ್ಷಿತ ಲೇಪನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ ಬದಲಾಗಬಹುದು. PVD ಗಾಗಿ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಟೈಟಾನಿಯಂ, ಕ್ರೋಮಿಯಂ, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು, ಹಾಗೆಯೇ ಸೆರಾಮಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಸಂಯುಕ್ತಗಳಂತಹ ಲೋಹಗಳು ಸೇರಿವೆ.

PVD ಲೇಪನಕ್ಕಾಗಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಕೆಲವು ವಸ್ತುಗಳು ಸೇರಿವೆ:

1. ಟೈಟಾನಿಯಂ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು: ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಜೈವಿಕ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

2. ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಮತ್ತು ಕ್ರೋಮಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್: ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಗಡಸುತನ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಅಲಂಕಾರಿಕ ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವಿಕೆಗೆ ಹೆಸರುವಾಸಿಯಾಗಿದೆ.

3. ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳು: ಉತ್ತಮ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆಯೊಂದಿಗೆ ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಮತ್ತು ಅಲಂಕಾರಿಕ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

4. ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ನೈಟ್ರೈಡ್ ಮತ್ತು ಟೈಟಾನಿಯಂ ನೈಟ್ರೈಡ್: ಅವುಗಳ ಗಡಸುತನ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಅಲಂಕಾರಿಕ ಚಿನ್ನದ ಮುಕ್ತಾಯಕ್ಕೆ ಹೆಸರುವಾಸಿಯಾಗಿದೆ.

5. ಸಿಲಿಕಾನ್ ನೈಟ್ರೈಡ್ ಮತ್ತು ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್: ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರತಿರೋಧ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆಯ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಈ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಅವುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ತಲಾಧಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಹೆಚ್ಚಿದ ಗಡಸುತನ, ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧ, ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ ಮತ್ತು ಸೌಂದರ್ಯದಂತಹ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.