Алмазды химиялық бумен тұндыру (CVD) әдісі басқарылатын ортада алмаз пленкасын немесе жабынды синтездеу үшін химиялық процесті қолдануды қамтиды. Бұл әдісте әдетте құрамында метан сияқты көмірсутек газдары бар газ қоспасы молибден пластиналары немесе алмас пластиналары сияқты субстрат материалымен бірге реакция камерасына енгізіледі. Содан кейін газ көмірсутек молекулаларын ыдырату және көміртек атомдарын субстратқа қою үшін жылу немесе плазма сияқты әртүрлі құралдармен белсендіріледі, нәтижесінде алмаз кристалдары өседі.

Алмаздың CVD процесі бірнеше артықшылықтарды ұсынады, соның ішінде қалыңдығын, біркелкілігін және құрамын дәл бақылай отырып, жоғары сапалы алмаз жабындарын шығару мүмкіндігі. Ол сондай-ақ әртүрлі өнеркәсіптік және ғылыми-зерттеу қолданбалары үшін алмаспен қапталған бөлшектерді жасауға мүмкіндік беретін әртүрлі субстрат материалдарына алмаз пленкаларын орналастыруға мүмкіндік береді.

Жалпы алғанда, алмастың CVD әдісі - синтетикалық алмаз пленкалары мен жабындарын өндіруге арналған әмбебап және кеңінен қолданылатын әдіс, оларды электроника, кескіш құралдар және тозуға төзімді жабындар сияқты салаларда құнды етеді.