არსებობს სერიოზული ჰაერის იონური სხივი მყარ მასალაში, იონის სხივი მყარი მასალის ატომებისკენ ან მოლეკულების მყარ მატერიალურ ზედაპირზე, ამ ფენომენს ეწოდება იონური სხივი sputtering; და როდესაც მყარი მასალა, მყარი მასალის ზედაპირს უბრუნდება უკან, ან მყარი მასალისაგან ამ ფენომენებზე, ეწოდება გაფანტვა; არის კიდევ ერთი ფენომენი, რომ მას შემდეგ, რაც იონური სხივი მყარ მასალას მიაქვს მყარი მასალით და ნელ-ნელა ამცირებს წინააღმდეგობას და საბოლოოდ რჩება მყარ მასალებში, ამ ფენომენს იონის იმპლანტაცია ეწოდება.
იონის იმპლანტაციის ტექნიკა:
არის მასალის ზედაპირის მოდიფიკაციის ერთგვარი ტექნოლოგია, რომელიც სწრაფად განვითარდა და ფართოდ გამოიყენება მსოფლიოში ბოლო 30 წლის განმავლობაში. ძირითადი პრინციპი არის იონური სხივის ენერგიის გამოყენება 100 კევ მატერიალზე იონურ სხივზე და ატომების ან მოლეკულების მასალები იქნება ფიზიკური და ქიმიური ურთიერთქმედების სერია, იონის ენერგიის დაკარგვა თანდათანობით, ბოლო გაჩერება მასალა და იწვევს მასალის ზედაპირის შემადგენლობის სტრუქტურისა და თვისებების ცვლილებას. მასალების ზედაპირის თვისებების ოპტიმიზაციის მიზნით, ან ახალი თვისებების მისაღებად. ახალი ტექნოლოგია თავისი უნიკალური უპირატესობების გამო, იყო დოპირებული ნახევარგამტარული მასალა, ლითონის, კერამიკის, პოლიმერის, ზედაპირის მოდიფიკაცია ფართოდ გამოიყენება, მიაღწია დიდ ეკონომიკურ და სოციალურ სარგებელს.
იონის იმპლანტაცია, როგორც მნიშვნელოვანი დოპინგ ტექნოლოგია მიკროელექტრონულ ტექნოლოგიაში, მნიშვნელოვან როლს ასრულებს მასალების ზედაპირის თვისებების ოპტიმიზაციაში. იონის იმპლანტაციის ტექნოლოგია არის ძალიან მაღალი ტემპერატურის შესრულება და მასალის ქიმიური კოროზიის წინააღმდეგობის წინააღმდეგობა. ამიტომ იონიზაციის კამერის ძირითადი ნაწილები დამზადებულია ვოლფრამის, მოლიბდენის ან გრაფიტის მასალებისგან. Gemei წლების განმავლობაში მრეწველობის კვლევა და წარმოება ვოლფრამის მოლიბდენის მასალის იონის იმპლანტაციის გზით, წარმოების პროცესს აქვს სტაბილური და მდიდარი გამოცდილება.
ცხელი პროდუქტები იონის იმპლანტაციისთვის
