Cara deposisi uap kimia (CVD) berlian kalebu nggunakake proses kimia kanggo sintesis film utawa lapisan berlian ing lingkungan sing dikontrol. Ing metode iki, campuran gas, biasane ngemot gas hidrokarbon kayata metana, dilebokake menyang kamar reaksi bebarengan karo bahan substrat kayata wafer molibdenum utawa wafer berlian. Gas kasebut banjur diaktifake kanthi macem-macem cara, kayata panas utawa plasma, kanggo ngrusak molekul hidrokarbon lan nyetop atom karbon ing substrat, sing nyebabake tuwuh kristal berlian.

Proses CVD berlian nawakake sawetara kaluwihan, kalebu kemampuan kanggo ngasilake lapisan berlian berkualitas tinggi kanthi kontrol ketebalan, keseragaman lan komposisi sing tepat. Uga ngidini deposisi film berlian ing macem-macem bahan substrat, mbisakake nggawe bagean sing dilapisi berlian kanggo macem-macem aplikasi industri lan riset.

Sakabèhé, cara CVD berlian minangka teknik sing serbaguna lan akeh digunakake kanggo ngasilake film lan lapisan berlian sintetik kanthi sifat sing disesuaikan, dadi terkenal ing industri kayata elektronik, alat pemotong, lan lapisan tahan nyandhang.