מטרות לקרטעת טנטלום משמשות בתהליך שקיעת הקזת, שיטה להנחת סרטים דקים מחומרים שונים על גבי מצע. במקרה של מטרות לקרטעת טנטלום, הם משמשים להנחת סרטים דקים של טנטלום על מגוון משטחים, כגון פרוסות מוליכים למחצה, ציפויים לתצוגה ורכיבים אלקטרוניים אחרים. במהלך תהליך שקיעת הקפיצה, מטרת מקרטעת הטנטלום מופגזת על ידי יונים עתירי אנרגיה, מה שגורם לפליטה של ​​אטומי טנטלום מהמטרה ומושקעים על המצע בצורה של סרט דק. התהליך מאפשר שליטה מדויקת בעובי הסרט ובאחידותו, מה שהופך אותו לשיטה חשובה לייצור מכשירים אלקטרוניים ומוצרי היי-טק אחרים. מטרות התזת טנטלום מוערכות בשל נקודת ההיתוך הגבוהה שלהן, האינרטיות הכימית והתאימות למגוון חומרי מצע, מה שהופך אותן לאידיאליות עבור יישומים הדורשים סרטים עמידים ואיכותיים. מטרות אלו משמשות בדרך כלל בייצור של קבלים, מעגלים משולבים והתקנים אלקטרוניים אחרים.