Disco di tungsteno target in tungsteno puro al 99,95% in Cina per l'industria Produttore e fornitore

disco di tungsteno target in tungsteno puro al 99,95% per l'industria

Breve descrizione:

I target e i dischi di tungsteno sono comunemente utilizzati in una varietà di applicazioni industriali, in particolare nei processi di deposizione e rivestimento di film sottili. Il tungsteno è noto per il suo elevato punto di fusione, l'eccellente conduttività termica e la resistenza alla corrosione, che lo rendono un materiale ideale per tali applicazioni.

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Dettagli del prodotto

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Descrizioni dei prodotti

Il materiale target in tungsteno è un prodotto realizzato con polvere di tungsteno pura e ha un aspetto bianco argento. È popolare in molti campi grazie alle sue eccellenti proprietà fisiche e chimiche. La purezza dei materiali target in tungsteno può solitamente raggiungere il 99,95% o superiore e presentano caratteristiche quali bassa resistenza, elevato punto di fusione, basso coefficiente di espansione, bassa pressione di vapore, non tossicità e non radioattività. Inoltre, i materiali target in tungsteno hanno anche una buona stabilità termochimica e non sono soggetti a espansione o contrazione di volume, reazioni chimiche con altre sostanze e altri fenomeni.

Specifiche del prodotto

Dimensioni	Come tuo requisito
Luogo di origine	Luoyang, Henan
Marchio	FGD
Applicazione	Medicina, industria, semiconduttori
Forma	Girare
Superficie	Lucido
Purezza	99,95%
Grado	W1
Densità	19,3 g/cm3
Punto di fusione	3420 ℃
Punto di ebollizione	5555℃

Composizione chimica

Componenti principali	W＞99,95%
Contenuto di impurità ≤
Pb	0,0005
Fe	0,0020
S	0,0050
P	0,0005
C	0,01
Cr	0,0010
Al	0,0015
Cu	0,0015
K	0,0080
N	0,003
Sn	0,0015
Si	0,0020
Ca	0,0015
Na	0,0020
O	0,008
Ti	0,0010
Mg	0,0010

Specifiche comuni

Diametro	φ25,4 mm	φ50 mm	φ50,8 mm	φ60 mm	φ76,2 mm	φ80,0 mm	φ101,6 mm	φ100 mm
Spessore	3 mm	4mm	5 mm	6 mm	6.35

Perché scegliere noi

1. La nostra fabbrica si trova nella città di Luoyang, nella provincia di Henan. Luoyang è un'area di produzione di miniere di tungsteno e molibdeno, quindi abbiamo vantaggi assoluti in termini di qualità e prezzo;

2. La nostra azienda dispone di personale tecnico con oltre 15 anni di esperienza e forniamo soluzioni e suggerimenti mirati per le esigenze di ogni cliente.

3. Tutti i nostri prodotti sono sottoposti a severi controlli di qualità prima di essere esportati.

4. Se ricevi merce difettosa, puoi contattarci per un rimborso.

Flusso di produzione

1.Metodo della metallurgia delle polveri

(Premere la polvere di tungsteno per darle la forma e poi sinterizzarla ad alta temperatura in un'atmosfera di idrogeno)

2. Preparazione dei materiali target dello sputtering

(Deposizione di materiale di tungsteno su un substrato per formare una pellicola sottile)

3. pressatura isostatica a caldo

(Trattamento di densificazione del materiale di tungsteno applicando contemporaneamente alta temperatura e alta pressione)

4.Metodo di fusione

(Utilizzare l'alta temperatura per sciogliere completamente il tungsteno e quindi creare materiali target attraverso la fusione o altri processi di formatura)

5. Deposizione di vapori chimici

(Metodo di decomposizione del precursore gassoso ad alta temperatura e deposito di tungsteno sul substrato)

Applicazioni

Tecnologia di rivestimento a film sottile: i target in tungsteno sono ampiamente utilizzati anche nelle tecnologie di rivestimento a film sottile come la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD). Nel processo PVD, il bersaglio di tungsteno viene bombardato da ioni ad alta energia, evapora e si deposita sulla superficie del wafer, formando una densa pellicola di tungsteno. Questo film ha una durezza e una resistenza all'usura estremamente elevate, che possono migliorare efficacemente la resistenza meccanica e la durata dei dispositivi a semiconduttore. Nel processo CVD, il materiale target di tungsteno viene depositato sulla superficie del wafer attraverso una reazione chimica ad alta temperatura per formare un rivestimento uniforme, particolarmente adatto per l'uso in dispositivi a semiconduttore ad alta potenza e alta frequenza.

Certificati

Diagramma di spedizione

Domande frequenti

Quali sono i principali vantaggi dei materiali target in tungsteno?

Il molibdeno viene spesso utilizzato come materiale target nella mammografia grazie alle sue proprietà favorevoli per l'imaging del tessuto mammario. Il molibdeno ha un numero atomico relativamente basso, il che significa che i raggi X che produce sono ideali per l'imaging dei tessuti molli come il seno. Il molibdeno produce raggi X caratteristici a livelli di energia più bassi, rendendoli ideali per osservare sottili differenze nella densità del tessuto mammario.

Inoltre, il molibdeno ha buone proprietà di conduttività termica, che è importante nelle apparecchiature mammografiche dove sono comuni esposizioni ripetute ai raggi X. La capacità di dissipare efficacemente il calore aiuta a mantenere la stabilità e le prestazioni dei tubi a raggi X per periodi di utilizzo prolungati.

Nel complesso, l’uso del molibdeno come materiale target nella mammografia aiuta a ottimizzare la qualità dell’imaging del seno fornendo proprietà radiologiche adeguate per questa specifica applicazione.

Quali sono gli svantaggi dei materiali target in tungsteno?

Elevata fragilità: i materiali bersaglio in tungsteno hanno un'elevata fragilità e sono suscettibili agli urti e alle vibrazioni, che possono causare danni.
Costi di produzione elevati: il costo di produzione del materiale target in tungsteno è relativamente elevato perché il suo processo di produzione richiede una serie di procedure complesse e apparecchiature di lavorazione ad alta precisione.
Difficoltà di saldatura: la saldatura dei materiali target in tungsteno è relativamente difficile e richiede processi e tecniche di saldatura speciali per garantire l'integrità della loro struttura e prestazioni.
Elevato coefficiente di dilatazione termica: il materiale target in tungsteno ha un elevato coefficiente di dilatazione termica, quindi, se utilizzato in ambienti ad alta temperatura, è necessario prestare attenzione alle sue variazioni di dimensione e all'influenza dello stress termico.