Disco di tungsteno target in tungsteno puro al 99,95% in Cina per l'industria Produttore e fornitore |Tungsteno forgiato

disco di tungsteno target in tungsteno puro al 99,95% per l'industria

Breve descrizione:

I target e i dischi di tungsteno sono comunemente utilizzati in una varietà di applicazioni industriali, in particolare nei processi di deposizione e rivestimento di film sottili.Il tungsteno è noto per il suo elevato punto di fusione, l'eccellente conduttività termica e la resistenza alla corrosione, che lo rendono un materiale ideale per tali applicazioni.

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Cos'è un bersaglio di tungsteno?

I target in tungsteno sono un materiale specializzato utilizzato nel processo di deposizione fisica in fase di vapore (PVD) e sono comunemente utilizzati per produrre pellicole sottili per una varietà di applicazioni industriali.I target in tungsteno sono generalmente realizzati in tungsteno di elevata purezza e sono progettati per depositare pellicole sottili su substrati nei sistemi PVD.

Nel processo PVD, una fonte ad alta energia come un fascio di elettroni o un plasma viene utilizzata per bombardare un bersaglio di tungsteno, provocando l'espulsione di atomi dal bersaglio.Questi atomi espulsi passano quindi attraverso una camera a vuoto e si depositano sulla superficie di un substrato, formando una pellicola sottile.

I target in tungsteno sono apprezzati per il loro elevato punto di fusione, che consente loro di resistere alle alte temperature generate durante il PVD.Inoltre, l'eccellente conduttività termica e la resistenza alla corrosione del tungsteno lo rendono un materiale ideale per i sistemi PVD.

I film sottili prodotti utilizzando target di tungsteno hanno un'ampia gamma di applicazioni tra cui l'industria dei semiconduttori, l'ottica, l'elettronica e l'energia solare.Le proprietà del film, come conduttività, riflettività e durezza, possono essere personalizzate regolando il processo di deposizione, rendendo i target in tungsteno uno strumento versatile per la produzione industriale di film sottili.

Perché viene utilizzato il tungsteno come materiale target?

Il tungsteno viene utilizzato come bersaglio nel processo di deposizione fisica da fase vapore (PVD) per diversi motivi:

1. Alto punto di fusione: il tungsteno ha il punto di fusione più alto tra tutti i metalli, quindi è adatto a resistere alle alte temperature generate durante il processo PVD.Ciò consente al bersaglio di tungsteno di resistere allo stress termico e mantenere la sua integrità strutturale durante la deposizione.

2. Conduttività termica: il tungsteno ha un'eccellente conduttività termica e aiuta a dissipare il calore generato durante il processo PVD.Questa proprietà è fondamentale per mantenere la stabilità del target e garantire una deposizione uniforme della pellicola.

3. Chimicamente inerte: il tungsteno ha una forte resistenza alle reazioni chimiche e alla corrosione, rendendolo un materiale ideale per il processo PVD.Nel processo PVD, il materiale target deve rimanere stabile in presenza di gas reattivi o plasma ad alta energia.

4. Qualità della pellicola: i target in tungsteno possono produrre pellicole di alta qualità con proprietà ideali come alta densità, uniformità e adesione ai substrati, che le rendono adatte per un'ampia gamma di applicazioni industriali.

Nel complesso, la combinazione unica di proprietà esibite dal tungsteno, tra cui l'elevato punto di fusione, la conduttività termica e la stabilità chimica, lo rendono un'eccellente scelta target nel processo PVD, in grado di produrre una varietà di pellicole ad alte prestazioni.Applicazioni industriali.