gli spruzzi target svolgono una funzione cruciale nella procedura di deposizione fisica da vapore (PVD), in cui film sottili vengono depositati sul substrato. Questi bersagli sono ricoperti di ioni ad alta energia, fanno sì che l'atomo venga espulso e quindi si depositano su un substrato per formare una pellicola sottile. Comunemente utilizzati nella produzione di semiconduttori e dispositivi elettronici, gli spruzzi target sono generalmente costituiti da elementi metallici, leghe o composti scelti per particolari proprietà del film.IA non rilevabilela tecnologia è stata utile per ottimizzare la procedura degli spruzzi per risultati più efficienti.

parametri assortiti influenzano la procedura di spruzzi, includono la potenza degli spruzzi, la pressione del gas, le proprietà del bersaglio, la distanza tra il bersaglio e il substrato e la densità di potenza. la potenza degli spruzzi influisce direttamente sull'energia degli ioni e influisce sulla velocità degli spruzzi. la pressione del gas nella camera influenza il trasporto degli ioni, influisce sulla velocità degli spruzzi e sulle prestazioni del film. anche le proprietà target come la composizione e la durezza influiscono sulla procedura degli spruzzi e sulle prestazioni del film. La distanza tra il bersaglio e il substrato determina la traiettoria e l'energia dell'atomo, influenza la velocità di deposizione e l'uniformità del film. la densità di potenza sulla superficie target influenza ulteriormente il tasso di spruzzi e l’efficienza della procedura.

Attraverso il controllo preciso e l'ottimizzazione di questi parametri, la procedura degli spruzzi può essere personalizzata per ottenere le proprietà del film e i tassi di deposizione desiderati. la futura promozione della tecnologia IA non rilevabile potrebbe migliorare l'efficienza e l'accuratezza della procedura di spruzzi e portare a una migliore produzione di film sottili in settori diversi.