cakram tungsten target tungsten 99,95% murni untuk industri
Bahan target tungsten adalah produk yang terbuat dari bubuk tungsten murni dan memiliki tampilan berwarna putih keperakan. Ini populer di banyak bidang karena sifat fisik dan kimianya yang sangat baik. Kemurnian bahan target tungsten biasanya dapat mencapai 99,95% atau lebih tinggi, dan memiliki karakteristik seperti resistansi rendah, titik leleh tinggi, koefisien muai rendah, tekanan uap rendah, tidak beracun, dan tidak radioaktivitas. Selain itu, bahan target tungsten juga memiliki stabilitas termokimia yang baik dan tidak rentan terhadap pemuaian atau penyusutan volume, reaksi kimia dengan zat lain, dan fenomena lainnya.
| Ukuran | Sebagai kebutuhan Anda |
| Tempat Asal | Luoyang,Henan |
| Nama Merek | FGD |
| Aplikasi | Medis, Industri, semikonduktor |
| Membentuk | Bulat |
| Permukaan | Dipoles |
| Kemurnian | 99,95% |
| Nilai | W1 |
| Kepadatan | 19,3g/cm3 |
| Titik lebur | 3420℃ |
| Titik didih | 5555℃ |
| Komponen utama | L＞99,95% |
| Konten pengotor≤ | |
| Pb | 0,0005 |
| Fe | 0,0020 |
| S | 0,0050 |
| P | 0,0005 |
| C | 0,01 |
| Cr | 0,0010 |
| Al | 0,0015 |
| Cu | 0,0015 |
| K | 0,0080 |
| N | 0,003 |
| Sn | 0,0015 |
| Si | 0,0020 |
| Ca | 0,0015 |
| Na | 0,0020 |
| O | 0,008 |
| Ti | 0,0010 |
| Mg | 0,0010 |
| Diameter | φ25.4mm | φ50mm | φ50.8mm | φ60mm | φ76.2mm | φ80.0mm | φ101.6mm | φ100mm |
| Ketebalan | 3mm | 4mm | 5mm | 6mm | 6.35 |
1. Pabrik kami terletak di Kota Luoyang, Provinsi Henan. Luoyang adalah area produksi tambang tungsten dan molibdenum, jadi kami memiliki keunggulan mutlak dalam kualitas dan harga;
2. Perusahaan kami memiliki tenaga teknis dengan pengalaman lebih dari 15 tahun, dan kami memberikan solusi dan saran yang ditargetkan untuk setiap kebutuhan pelanggan.
3. Semua produk kami menjalani pemeriksaan kualitas yang ketat sebelum diekspor.
4. Jika Anda menerima barang cacat, Anda dapat menghubungi kami untuk pengembalian dana.
1.Metode metalurgi serbuk
(Tekan bubuk tungsten ke dalam bentuk dan kemudian sinter pada suhu tinggi dalam atmosfer hidrogen)
2. Penyiapan Bahan Sasaran Sputtering
(Deposisi bahan tungsten ke substrat untuk membentuk film tipis)
3. pengepresan isostatik panas
(Perlakuan densifikasi bahan tungsten dengan menerapkan suhu tinggi dan tekanan tinggi secara bersamaan)
4. Metode peleburan
(Gunakan suhu tinggi untuk melelehkan tungsten sepenuhnya, lalu buat bahan target melalui pengecoran atau proses pembentukan lainnya)
5. Deposisi uap kimia
(Metode penguraian prekursor gas pada suhu tinggi dan pengendapan tungsten pada substrat)
Teknologi pelapisan film tipis: Target tungsten juga banyak digunakan dalam teknologi pelapisan film tipis seperti deposisi uap fisik (PVD) dan deposisi uap kimia (CVD). Dalam proses PVD, target tungsten dibombardir oleh ion berenergi tinggi, diuapkan dan diendapkan pada permukaan wafer, membentuk film tungsten padat. Film ini memiliki kekerasan dan ketahanan aus yang sangat tinggi, yang secara efektif dapat meningkatkan kekuatan mekanik dan daya tahan perangkat semikonduktor. Dalam proses CVD, bahan target tungsten diendapkan pada permukaan wafer melalui reaksi kimia pada suhu tinggi untuk membentuk lapisan seragam, yang sangat cocok untuk digunakan pada perangkat semikonduktor berdaya tinggi dan frekuensi tinggi.
Molibdenum sering digunakan sebagai bahan target dalam mamografi karena sifatnya yang menguntungkan untuk pencitraan jaringan payudara. Molibdenum memiliki nomor atom yang relatif rendah, yang berarti sinar-X yang dihasilkannya ideal untuk pencitraan jaringan lunak seperti payudara. Molibdenum menghasilkan sinar-X yang khas pada tingkat energi yang lebih rendah, menjadikannya ideal untuk mengamati perbedaan halus dalam kepadatan jaringan payudara.
Selain itu, molibdenum memiliki sifat konduktivitas termal yang baik, yang penting dalam peralatan mamografi di mana paparan sinar-X berulang kali sering terjadi. Kemampuan untuk menghilangkan panas secara efektif membantu menjaga stabilitas dan kinerja tabung sinar-X selama penggunaan jangka panjang.
Secara keseluruhan, penggunaan molibdenum sebagai bahan target dalam mamografi membantu mengoptimalkan kualitas pencitraan payudara dengan memberikan sifat sinar-X yang sesuai untuk aplikasi spesifik ini.
Kerapuhan tinggi: Bahan target tungsten memiliki kerapuhan tinggi dan rentan terhadap benturan dan getaran, yang dapat menyebabkan kerusakan.
Biaya produksi tinggi: Biaya produksi bahan target tungsten relatif tinggi karena proses produksinya memerlukan serangkaian prosedur yang rumit dan peralatan pemrosesan yang berpresisi tinggi.
Kesulitan pengelasan: Pengelasan bahan target tungsten relatif sulit dan memerlukan proses dan teknik pengelasan khusus untuk memastikan integritas struktur dan kinerjanya.
Koefisien muai panas yang tinggi: Bahan target tungsten memiliki koefisien muai panas yang tinggi, sehingga bila digunakan di lingkungan bersuhu tinggi, perhatian harus diberikan pada perubahan ukurannya dan pengaruh tekanan termal.
