Cina cakram tungsten target tungsten 99,95% murni untuk Produsen dan Pemasok industri |Tungsten palsu

cakram tungsten target tungsten 99,95% murni untuk industri

Deskripsi Singkat:

Target tungsten dan cakram tungsten umumnya digunakan dalam berbagai aplikasi industri, terutama dalam proses pengendapan dan pelapisan film tipis.Tungsten dikenal dengan titik lelehnya yang tinggi, konduktivitas termal yang sangat baik, dan ketahanan terhadap korosi, menjadikannya bahan yang ideal untuk aplikasi semacam itu.

Kirim email ke kami Unduh sebagai PDF

Rincian produk

Label Produk

Apa yang dimaksud dengan target tungsten?

Target tungsten adalah bahan khusus yang digunakan dalam proses deposisi uap fisik (PVD) dan biasanya digunakan untuk memproduksi film tipis untuk berbagai aplikasi industri.Target tungsten biasanya terbuat dari tungsten dengan kemurnian tinggi dan dirancang untuk menyimpan film tipis ke substrat dalam sistem PVD.

Dalam proses PVD, sumber energi tinggi seperti berkas elektron atau plasma digunakan untuk membombardir target tungsten, menyebabkan atom terlontar dari target.Atom-atom yang dikeluarkan ini kemudian melewati ruang vakum dan diendapkan ke permukaan substrat, membentuk lapisan tipis.

Target tungsten dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, yang memungkinkannya menahan suhu tinggi yang dihasilkan selama PVD.Selain itu, konduktivitas termal dan ketahanan korosi tungsten yang sangat baik menjadikannya bahan yang ideal untuk sistem PVD.

Film tipis yang diproduksi menggunakan target tungsten memiliki beragam aplikasi termasuk industri semikonduktor, optik, elektronik, dan energi surya.Sifat film, seperti konduktivitas, reflektifitas, dan kekerasan, dapat disesuaikan dengan menyesuaikan proses pengendapan, menjadikan target tungsten sebagai alat serbaguna untuk produksi film tipis industri.

Mengapa tungsten digunakan sebagai bahan target?

Tungsten digunakan sebagai target dalam proses pengendapan uap fisik (PVD) karena beberapa alasan:

1. Titik leleh tinggi: Tungsten memiliki titik leleh tertinggi di antara semua logam, sehingga cocok untuk menahan suhu tinggi yang dihasilkan selama proses PVD.Hal ini memungkinkan target tungsten menahan tekanan termal dan menjaga integritas strukturalnya selama pengendapan.

2. Konduktivitas termal: Tungsten memiliki konduktivitas termal yang sangat baik dan membantu menghilangkan panas yang dihasilkan selama proses PVD.Properti ini sangat penting untuk menjaga stabilitas target dan memastikan deposisi film seragam.

3. Inert secara kimia: Tungsten memiliki ketahanan yang kuat terhadap reaksi kimia dan korosi, menjadikannya bahan yang ideal untuk proses PVD.Dalam proses PVD, material target harus tetap stabil dengan adanya gas reaktif atau plasma berenergi tinggi.

4. Kualitas film: Target tungsten dapat menghasilkan film berkualitas tinggi dengan sifat ideal seperti kepadatan tinggi, keseragaman, dan daya rekat pada substrat, sehingga cocok untuk berbagai aplikasi industri.

Secara keseluruhan, kombinasi unik dari sifat-sifat yang ditunjukkan oleh tungsten, termasuk titik leleh tinggi, konduktivitas termal, dan stabilitas kimia, menjadikannya pilihan target yang sangat baik dalam proses PVD, yang mampu menghasilkan berbagai film berperforma tinggi.Aplikasi industri.