Metode deposisi uap kimia (CVD) berlian melibatkan penggunaan proses kimia untuk mensintesis lapisan atau lapisan berlian dalam lingkungan yang terkendali. Dalam metode ini, campuran gas, biasanya mengandung gas hidrokarbon seperti metana, dimasukkan ke dalam ruang reaksi bersama dengan bahan substrat seperti wafer molibdenum atau wafer berlian. Gas tersebut kemudian diaktifkan dengan berbagai cara, seperti panas atau plasma, untuk memecah molekul hidrokarbon dan menyimpan atom karbon ke substrat, sehingga menghasilkan pertumbuhan kristal berlian.

Proses CVD pada berlian menawarkan beberapa keunggulan, termasuk kemampuan menghasilkan lapisan berlian berkualitas tinggi dengan kontrol ketebalan, keseragaman, dan komposisi yang tepat. Hal ini juga memungkinkan pengendapan film berlian pada berbagai bahan substrat, memungkinkan pembuatan komponen berlapis berlian untuk berbagai aplikasi industri dan penelitian.

Secara keseluruhan, metode berlian CVD adalah teknik serbaguna dan banyak digunakan untuk memproduksi film dan pelapis berlian sintetis dengan sifat yang disesuaikan, menjadikannya berharga dalam industri seperti elektronik, peralatan pemotong, dan pelapis tahan aus.