Lembaran berlian molibdenum wafer molibdenum Cina di Produsen dan Pemasok CVD |Tungsten palsu

lembaran berlian molibdenum wafer molibdenum dalam CVD

lembaran berlian molibdenum wafer molibdenum dalam Gambar Unggulan CVD

Deskripsi Singkat:

Titik leleh molibdenum yang tinggi, konduktivitas termal, dan kelembaman kimia membuatnya cocok untuk aplikasi CVD di mana stabilitas suhu tinggi dan ketahanan terhadap reaktivitas kimia sangat penting.Komponen-komponen ini dapat digunakan untuk memproduksi perangkat semikonduktor, pelapis film tipis dan bahan berbasis berlian untuk berbagai aplikasi industri dan penelitian.

Kirim email ke kami Unduh sebagai PDF

Rincian produk

Label Produk

Apa metode CVD untuk berlian?

Metode deposisi uap kimia (CVD) berlian melibatkan penggunaan proses kimia untuk mensintesis lapisan atau lapisan berlian dalam lingkungan yang terkendali.Dalam metode ini, campuran gas, biasanya mengandung gas hidrokarbon seperti metana, dimasukkan ke dalam ruang reaksi bersama dengan bahan substrat seperti wafer molibdenum atau wafer berlian.Gas tersebut kemudian diaktifkan dengan berbagai cara, seperti panas atau plasma, untuk memecah molekul hidrokarbon dan menyimpan atom karbon ke substrat, sehingga menghasilkan pertumbuhan kristal berlian.

Proses CVD pada berlian menawarkan beberapa keunggulan, termasuk kemampuan menghasilkan lapisan berlian berkualitas tinggi dengan kontrol ketebalan, keseragaman, dan komposisi yang tepat.Hal ini juga memungkinkan pengendapan film berlian pada berbagai bahan substrat, memungkinkan pembuatan komponen berlapis berlian untuk berbagai aplikasi industri dan penelitian.

Secara keseluruhan, metode berlian CVD adalah teknik serbaguna dan banyak digunakan untuk memproduksi film dan pelapis berlian sintetis dengan sifat yang disesuaikan, menjadikannya berharga dalam industri seperti elektronik, peralatan pemotong, dan pelapis tahan aus.

Berapa kekerasan lapisan CVD?

Kekerasan lapisan deposisi uap kimia (CVD) dapat bervariasi tergantung pada bahan spesifik yang diendapkan dan parameter proses yang digunakan.Namun, lapisan CVD dikenal karena kekerasannya yang luar biasa, seringkali melebihi lapisan deposisi uap fisik (PVD) tradisional.

Untuk lapisan berlian CVD, kekerasan sangat diperhatikan.Berlian adalah salah satu bahan paling keras yang diketahui, dan pelapis berlian CVD memiliki kekerasan luar biasa yang seringkali melebihi jenis pelapis lainnya.Kekerasan lapisan berlian CVD biasanya diukur menggunakan skala kekerasan Vickers dan berkisar dari 8000 HV hingga lebih dari 10.000 HV, menjadikannya salah satu bahan yang paling keras dan paling tahan aus.

Untuk pelapis CVD lainnya, seperti pelapis berbahan dasar karbida atau nitrida, kekerasannya juga bisa tinggi, sehingga memberikan ketahanan aus dan daya tahan yang sangat baik dalam berbagai aplikasi industri.

Secara keseluruhan, pelapis CVD dihargai karena kekerasannya yang luar biasa, sehingga cocok untuk aplikasi yang mengutamakan ketahanan aus, stabilitas suhu tinggi, dan kinerja jangka panjang.