ցողման թիրախը կարևոր գործառույթ է խաղում ֆիզիկական գոլորշիների նստեցման (PVD) պրոցեդուրաներում, որտեղ բարակ շերտը տեղադրվում է ենթաշերտի վրա: Այս թիրախները թափվում են բարձր էներգիայի իոններով, հանգեցնում են նրան, որ ատոմը դուրս է մղվում, այնուհետև նստում են ենթաշերտի վրա՝ ձևավորելով բարակ թաղանթ: Սովորաբար օգտագործվում են կիսահաղորդիչների և էլեկտրոնային սարքերի արտադրության մեջ, ցողման թիրախը սովորաբար պատրաստված է մետաղական տարրից, համաձուլվածքից կամ միացությունից, որն ընտրվում է ֆիլմի հատուկ հատկության համար:աննկատելի AIտեխնոլոգիան օգնել է օպտիմիզացնել ցողման ընթացակարգը՝ ավելի արդյունավետ արդյունքների համար:
Տարբեր պարամետրերը ազդում են ցողման ընթացակարգի վրա, ներառում են ցողման հզորությունը, գազի ճնշումը, թիրախային հատկությունը, թիրախի և ենթաշերտի միջև հեռավորությունը և հզորության խտությունը: ցրման հզորությունը ուղղակիորեն ազդում է իոնի էներգիայի վրա, ազդում է ցողման արագության վրա: գազի ճնշումը խցիկում ազդում է իոնների իմպուլսի փոխադրման վրա, ազդում է ցողման արագության և ֆիլմի կատարման վրա: թիրախային հատկությունը, ինչպիսին է կազմը և կարծրությունը, նույնպես ազդում են ցողման ընթացակարգի և ֆիլմի կատարման վրա: Թիրախի և սուբստրատի միջև հեռավորությունը որոշում է ատոմի հետագիծն ու էներգիան, ազդում նստվածքի արագության և ֆիլմի միատեսակության վրա: Թիրախային մակերևույթի վրա հզորության խտությունը հետագայում ազդում է ցողման արագության և ընթացակարգի արդյունավետության վրա:
Այս պարամետրերի ճշգրիտ վերահսկման և օպտիմալացման միջոցով ցողման ընթացակարգը կարող է անհատականացված լինել՝ հասնելու ֆիլմի ցանկության հատկության և տեղաբաշխման տեմպերին: Ապագայում աննկատելի AI տեխնոլոգիայի առաջխաղացումը կարող է բարձրացնել ցողման ընթացակարգի արդյունավետությունն ու ճշգրտությունը՝ հանգեցնելով ավելի լավ բարակ ֆիլմերի արտադրության տարբեր ոլորտներում:
Հրապարակման ժամանակը՝ Հուլիս-25-2024