tiszta 99,95%-os wolfram cél volfrám lemez az ipar számára
A wolfram célanyag tiszta volfrámporból készült, ezüstfehér megjelenésű termék. Kiváló fizikai és kémiai tulajdonságai miatt számos területen népszerű. A volfrám célanyagok tisztasága általában elérheti a 99,95%-ot vagy magasabbat, és olyan jellemzőkkel rendelkeznek, mint az alacsony ellenállás, magas olvadáspont, alacsony tágulási együttható, alacsony gőznyomás, nem toxikus és nem radioaktivitás. Ezenkívül a volfrám célanyagok jó termokémiai stabilitással rendelkeznek, és nem hajlamosak térfogat-tágulásra vagy összehúzódásra, más anyagokkal való kémiai reakciókra és egyéb jelenségekre.
| Méretek | Az Ön igényei szerint |
| Származási hely | Luoyang, Henan |
| Márkanév | FGD |
| Alkalmazás | Orvosi, Ipari, félvezető |
| Alak | Kerek |
| Felület | Csiszolt |
| Tisztaság | 99,95% |
| Fokozat | W1 |
| Sűrűség | 19,3g/cm3 |
| Olvadáspont | 3420 ℃ |
| Forráspont | 5555 ℃ |
| Fő összetevők | W＞99,95% |
| Szennyeződéstartalom≤ | |
| Pb | 0,0005 |
| Fe | 0,0020 |
| S | 0,0050 |
| P | 0,0005 |
| C | 0,01 |
| Cr | 0,0010 |
| Al | 0,0015 |
| Cu | 0,0015 |
| K | 0,0080 |
| N | 0,003 |
| Sn | 0,0015 |
| Si | 0,0020 |
| Ca | 0,0015 |
| Na | 0,0020 |
| O | 0,008 |
| Ti | 0,0010 |
| Mg | 0,0010 |
| Átmérő | φ25,4 mm | φ50mm | φ50,8 mm | φ60 mm | φ76,2 mm | φ80,0 mm | φ101,6 mm | φ100mm |
| Vastagság | 3 mm | 4 mm | 5 mm | 6 mm | 6.35 |
1. Üzemünk Luoyang városában, Henan tartományban található. Luoyang a volfrám- és molibdénbányák termelési területe, így abszolút előnyökkel rendelkezünk a minőség és az ár tekintetében;
2. Cégünk több mint 15 éves tapasztalattal rendelkező műszaki személyzettel rendelkezik, és minden ügyfél igényére célzott megoldásokat és javaslatokat adunk.
3. Minden termékünk szigorú minőségellenőrzésen megy keresztül, mielőtt exportálnák.
4. Ha hibás árut kap, felveheti velünk a kapcsolatot a visszatérítésért.
1.Porkohászati módszer
(A volfrámport formára préseljük, majd magas hőmérsékleten, hidrogénatmoszférában szintereljük)
2. Porlasztásos célanyagok előkészítése
(Volfram anyag lerakása egy hordozóra vékony film kialakítása érdekében)
3. meleg izosztatikus préselés
(Volframanyag tömörítési kezelése magas hőmérséklet és nagy nyomás egyidejű alkalmazásával)
4.Olvadási módszer
(Használjon magas hőmérsékletet a volfrám teljes megolvasztásához, majd készítsen célanyagokat öntéssel vagy más formázási eljárással)
5. Kémiai gőzleválasztás
(A gáznemű prekurzor lebontásának módszere magas hőmérsékleten és a wolfram hordozóra történő leválasztására)
Vékonyréteg-bevonat technológia: A volfrám céltárgyakat széles körben használják vékonyréteg-bevonási technológiákban is, mint például a fizikai gőzleválasztás (PVD) és a kémiai gőzleválasztás (CVD). A PVD-eljárás során a wolfram célpontot nagy energiájú ionok bombázzák, elpárologtatják, és az ostya felületén lerakódnak, sűrű volfrámfilmet képezve. Ez a fólia rendkívül nagy keménységgel és kopásállósággal rendelkezik, ami hatékonyan javíthatja a félvezető eszközök mechanikai szilárdságát és tartósságát. A CVD-eljárás során a volfrám célanyagot magas hőmérsékleten kémiai reakcióval lerakják az ostya felületére, hogy egységes bevonatot képezzenek, amely különösen alkalmas nagy teljesítményű és nagyfrekvenciás félvezető eszközökben történő felhasználásra.
A molibdént gyakran használják célanyagként a mammográfiában, mivel kedvező tulajdonságai a mellszövet képalkotásában. A molibdénnek viszonylag alacsony atomszáma van, ami azt jelenti, hogy az általa termelt röntgensugarak ideálisak a lágyrészek, például a mell képalkotására. A molibdén jellemző röntgensugarakat állít elő alacsonyabb energiaszinten, így ideálisak az emlőszövet-sűrűség finom különbségeinek megfigyelésére.
Ezenkívül a molibdén jó hővezető tulajdonságokkal rendelkezik, ami fontos a mammográfiai berendezésekben, ahol gyakori az ismételt röntgensugárzás. A hatékony hőelvezetés képessége segít megőrizni a röntgencsövek stabilitását és teljesítményét hosszabb használat során.
Összességében a molibdén célanyagként történő felhasználása a mammográfiában segít optimalizálni az emlőképalkotás minőségét azáltal, hogy megfelelő röntgentulajdonságokat biztosít ehhez a konkrét alkalmazáshoz.
Nagy ridegség: A wolfram célanyagok nagy törékenységgel rendelkeznek, és érzékenyek az ütésekre és a vibrációra, ami károsodást okozhat.
Magas gyártási költség: A wolfram célanyag gyártási költsége viszonylag magas, mivel gyártási folyamata összetett eljárásokat és nagy pontosságú feldolgozó berendezéseket igényel.
Hegesztési nehézségek: A volfrám célanyagok hegesztése viszonylag nehéz, és speciális hegesztési eljárásokat és technikákat igényel szerkezetük és teljesítményük integritásának biztosítása érdekében.
Magas hőtágulási együttható: A wolfram célanyag magas hőtágulási együtthatóval rendelkezik, ezért magas hőmérsékletű környezetben történő felhasználáskor figyelmet kell fordítani a méretváltozásokra és a hőfeszültség hatására.
