tiszta 99,95%-os wolfram cél volfrám lemez az ipar számára
A wolfram céltárgyak egy speciális anyag, amelyet a fizikai gőzleválasztási (PVD) folyamatban használnak, és általában vékony filmek előállítására használják különféle ipari alkalmazásokhoz.A wolfram céltárgyak jellemzően nagy tisztaságú volfrámból készülnek, és vékony filmrétegek hordozóra történő felhordására szolgálnak PVD-rendszerekben.
A PVD eljárás során nagy energiájú forrást, például elektronsugarat vagy plazmát használnak a wolfram célpont bombázására, ami atomok kilökődését okozza a célpontból.Ezek a kilökődött atomok azután áthaladnak egy vákuumkamrán, és egy hordozó felületére kerülnek, vékony filmet képezve.
A volfrám céltárgyakat magas olvadáspontjuk miatt értékelik, amely lehetővé teszi számukra, hogy ellenálljanak a PVD során keletkező magas hőmérsékleteknek.Ezenkívül a volfrám kiváló hővezető képessége és korrózióállósága ideális anyaggá teszi a PVD-rendszerekhez.
A wolfram céltárgyak felhasználásával előállított vékony fóliák széles körben alkalmazhatók, beleértve a félvezetőipart, az optikát, az elektronikát és a napenergiát.A fólia tulajdonságai, mint például a vezetőképesség, a visszaverődés és a keménység, a leválasztási folyamat beállításával testreszabhatók, így a volfrámcélok sokoldalú eszközzé válnak az ipari vékonyréteg-gyártáshoz.
A volfrámot több okból is használják célpontként a fizikai gőzleválasztási (PVD) folyamatban:
1. Magas olvadáspont: A volfrámnak van a legmagasabb olvadáspontja az összes fém közül, így alkalmas arra, hogy ellenálljon a PVD folyamat során keletkező magas hőmérsékleteknek.Ez lehetővé teszi, hogy a wolfram céltárgy ellenálljon a hőterhelésnek, és megőrizze szerkezeti integritását a lerakódás során.
2. Hővezetőképesség: A volfrám kiváló hővezető képességgel rendelkezik, és segít a PVD folyamat során keletkező hő elvezetésében.Ez a tulajdonság kritikus fontosságú a cél stabilitásának fenntartásához és az egyenletes filmlerakódás biztosításához.
3. Kémiailag inert: A volfrám erősen ellenáll a kémiai reakcióknak és a korróziónak, így ideális anyag a PVD-eljáráshoz.A PVD eljárás során a célanyagnak stabilnak kell maradnia reaktív gázok vagy nagy energiájú plazma jelenlétében.
4. Filmminőség: A wolfram céltárgyak kiváló minőségű fóliákat készíthetnek, amelyek ideális tulajdonságokkal rendelkeznek, mint például nagy sűrűség, egyenletesség és tapadás a szubsztrátumokhoz, így alkalmasak az ipari alkalmazások széles körére.
Összességében a wolfram tulajdonságainak egyedülálló kombinációja, beleértve a magas olvadáspontot, a hővezető képességet és a kémiai stabilitást, kiváló célválasztássá teszi a PVD-eljárásban, amely különféle nagy teljesítményű filmek előállítására képes.Ipari alkalmazások.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
