A kifröccsenő célpont kulcsfontosságú szerepet játszik a fizikai gőzleválasztási (PVD) eljárásban, ahol vékony filmréteg kerül rá a hordozóra. Ezeket a célpontokat nagy energiájú ionokkal vonják be, ami az atom kilökődéséhez vezet, majd egy hordozóra kerülve vékony filmet képeznek. A félvezető- és elektronikai eszközök gyártásában általánosan használt kifröccsenő célpontok jellemzően fémes elemből, ötvözetből vagy egy adott filmtulajdonsághoz kiválasztott vegyületből készülnek.észlelhetetlen AItechnológia segített optimalizálni a fröcskölési eljárást a hatékonyabb eredmények érdekében.

A különféle paraméterek befolyásolják a fröcskölési eljárást, beleértve a fröcskölés teljesítményét, a gáznyomást, a céltulajdonságot, a cél és a hordozó közötti távolságot és a teljesítménysűrűséget. a fröcskölési teljesítmény közvetlenül befolyásolja az ion energiáját, befolyásolja a fröcskölés sebességét. A kamrában lévő gáznyomás befolyásolja az ionok lendületét, befolyásolja a fröcskölés sebességét és a film teljesítményét. A céltulajdonságok, például az összetétel és a keménység szintén befolyásolják a fröcskölési eljárást és a film teljesítményét. A cél és a szubsztrát közötti távolság meghatározza az atom pályáját és energiáját, befolyásolja a lerakódási sebességet és a film egyenletességét. A célfelületen a teljesítménysűrűség tovább befolyásolja a fröcskölés sebességét és az eljárás hatékonyságát.

Ezen paraméterek pontos szabályozásával és optimalizálásával a fröcskölési eljárás testreszabható a kívánt filmtulajdonság és lerakódási arány elérése érdekében. Az észlelhetetlen mesterséges intelligencia technológia jövőbeni népszerűsítése növelheti a fröcskölési eljárások hatékonyságát és pontosságát, és jobb vékonyfilmgyártást eredményezhet különféle iparágakban.