Kina čisti 99,95% volfram ciljni volfram disk za industriju Proizvođač i dobavljač |Kovani volfram

čisti 99,95% volfram cilj volfram disk za industriju

Kratki opis:

Volframove mete i diskovi od volframa obično se koriste u raznim industrijskim primjenama, posebno u procesima taloženja tankog filma i presvlačenja.Volfram je poznat po visokom talištu, izvrsnoj toplinskoj vodljivosti i otpornosti na koroziju, što ga čini idealnim materijalom za takve primjene.

Pošaljite nam e-poštu Preuzmite kao PDF

Pojedinosti o proizvodu

Oznake proizvoda

Što je volframova meta?

Volframove mete su specijalizirani materijal koji se koristi u procesu fizičkog taloženja parom (PVD) i obično se koriste za proizvodnju tankih filmova za razne industrijske primjene.Volframove mete obično se izrađuju od volframa visoke čistoće i dizajnirane su za nanošenje tankih filmova na podloge u PVD sustavima.

U PVD procesu, izvor visoke energije kao što je elektronski snop ili plazma koristi se za bombardiranje volframove mete, uzrokujući izbacivanje atoma iz mete.Ovi izbačeni atomi zatim prolaze kroz vakuumsku komoru i talože se na površinu podloge, tvoreći tanki film.

Volframove mete cijenjene su zbog svoje visoke točke taljenja, što im omogućuje da izdrže visoke temperature nastale tijekom PVD-a.Osim toga, izvrsna toplinska vodljivost i otpornost na koroziju volframa čine ga idealnim materijalom za PVD sustave.

Tanki filmovi proizvedeni korištenjem volframovih meta imaju širok raspon primjena uključujući industriju poluvodiča, optiku, elektroniku i solarnu energiju.Svojstva filma, kao što su vodljivost, refleksija i tvrdoća, mogu se prilagoditi podešavanjem procesa taloženja, čineći volframove mete svestranim alatom za industrijsku proizvodnju tankog filma.

Zašto se volfram koristi kao ciljni materijal?

Volfram se koristi kao meta u procesu fizičkog taloženja iz pare (PVD) iz nekoliko razloga:

1. Visoka točka taljenja: volfram ima najvišu točku taljenja među svim metalima, tako da je prikladan za izdržavanje visokih temperatura koje nastaju tijekom PVD procesa.To omogućuje meti od volframa da izdrži toplinski stres i zadrži svoj strukturni integritet tijekom taloženja.

2. Toplinska vodljivost: volfram ima izvrsnu toplinsku vodljivost i pomaže u odvođenju topline koja se stvara tijekom PVD procesa.Ovo je svojstvo ključno za održavanje stabilnosti mete i osiguravanje ravnomjernog taloženja filma.

3. Kemijski inertan: Volfram ima jaku otpornost na kemijske reakcije i koroziju, što ga čini idealnim materijalom za PVD proces.U PVD procesu ciljni materijal mora ostati stabilan u prisutnosti reaktivnih plinova ili visokoenergetske plazme.

4. Kvaliteta filma: Volframove mete mogu proizvesti visokokvalitetne filmove s idealnim svojstvima kao što su visoka gustoća, ujednačenost i prianjanje na podloge, što ih čini prikladnima za širok raspon industrijskih primjena.

Sveukupno, jedinstvena kombinacija svojstava koja pokazuje volfram, uključujući visoko talište, toplinsku vodljivost i kemijsku stabilnost, čine ga izvrsnim ciljnim izborom u PVD procesu, sposobnim za proizvodnju raznih filmova visokih performansi.Industrijske primjene.