99.95% Tsabtace Tantalum Sputtering Target
Ana samar da maƙasudin sputtering Tantalum ta amfani da matakan ƙarfe na foda.
A wannan hanya, ana haɗa foda tantalum kuma a haɗa shi don samar da farantin tantalum mai ƙarfi. Sannan ana sarrafa zanen gadon da aka yi amfani da su ta hanyar tsari daban-daban, kamar injina ko birgima, don samun girman da ake so da gamawa. Sa'an nan kuma ana tsaftace samfurin ƙarshe kuma a duba shi don tabbatar da ya dace da ƙayyadaddun bayanai da ake buƙata don aikace-aikacen sputtering. Wannan hanyar samarwa tana tabbatar da cewa maƙasudin tantalum sputtering suna da tsabta mai mahimmanci, yawa da microstructure don cimma mafi kyawun aiki a cikin matakan saka fim na bakin ciki.
Ana amfani da maƙasudin sputtering Tantalum a cikin tsarin zub da jini, hanyar adana fina-finai na bakin ciki na kayan daban-daban a kan wani abu. A game da maƙasudin sputtering tantalum, ana amfani da su don saka fina-finai na bakin ciki na tantalum a kan sassa daban-daban, kamar wafers na semiconductor, suturar nuni, da sauran kayan lantarki. A yayin aiwatar da tsirowar sputter, maƙasudin tantalum mai ƙarfi yana jefa bama-bamai ta hanyar ions masu ƙarfi, yana haifar da fitar da ƙwayoyin tantalum daga abin da aka yi niyya kuma a ajiye su a kan ƙasa a cikin nau'in fim na bakin ciki. Tsarin yana ba da damar daidaitaccen iko na kauri na fim da daidaituwa, yana mai da shi hanya mai mahimmanci don kera na'urorin lantarki da sauran samfuran fasaha. Maƙasudin sputtering Tantalum suna da ƙima don babban ma'anar narkewar su, rashin kuzarin sinadarai, da daidaituwa tare da nau'ikan kayan aikin ƙasa, yana sa su dace don aikace-aikacen da ke buƙatar dorewa da fina-finai masu inganci. Ana amfani da waɗannan makasudi sosai wajen samar da capacitors, haɗaɗɗun da'irori da sauran na'urorin lantarki.
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