સ્પેટર ટાર્ગેટ ભૌતિક વરાળ ડિપોઝિશન (PVD) પ્રક્રિયામાં નિર્ણાયક કાર્ય કરે છે, જ્યાં પાતળી મૂવી સબસ્ટ્રેટ પર મૂકવામાં આવે છે. આ લક્ષ્યો ઉચ્ચ-ઊર્જા આયન સાથે પેલ્ટ છે, અણુને બહાર કાઢવા તરફ દોરી જાય છે અને પછી પાતળી મૂવી બનાવવા માટે સબસ્ટ્રેટ પર રહે છે. સામાન્ય રીતે સેમિકન્ડક્ટર અને ઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણના ઉત્પાદનમાં ઉપયોગ થાય છે, સ્પેટર ટાર્ગેટ સામાન્ય રીતે મેટાલિક એલિમેન્ટ, એલોય અથવા ચોક્કસ મૂવી પ્રોપર્ટી માટે પસંદ કરેલ સંયોજનથી બનેલા હોય છે.શોધી ન શકાય તેવું AIટેક્નોલોજી વધુ કાર્યક્ષમ પરિણામો માટે સ્પેટર પ્રક્રિયાને ઑપ્ટિમાઇઝ કરવામાં મદદ કરે છે.

મિશ્રિત પેરામીટર સ્પેટર પ્રક્રિયાને પ્રભાવિત કરે છે, જેમાં સ્પેટર પાવર, ગેસ પ્રેશર, લક્ષ્ય મિલકત, લક્ષ્ય અને સબસ્ટ્રેટ વચ્ચેનું અંતર અને પાવર ઘનતાનો સમાવેશ થાય છે. સ્પેટર પાવર આયનની ઊર્જાને સીધી અસર કરે છે, સ્પેટર રેટને અસર કરે છે. ચેમ્બરમાં ગેસનું દબાણ આયનના વેગ પરિવહનને પ્રભાવિત કરે છે, સ્પેટર રેટ અને મૂવી પ્રદર્શનને અસર કરે છે. ટાર્ગેટ પ્રોપર્ટી જેવી કે રચના અને કઠિનતા પણ સ્પેટર પ્રક્રિયા અને મૂવી પ્રદર્શનને અસર કરે છે. લક્ષ્ય અને સબસ્ટ્રેટ વચ્ચેનું અંતર અણુના માર્ગ અને ઊર્જાને નિર્ધારિત કરે છે, જુબાની દર અને મૂવી એકરૂપતાને અસર કરે છે. લક્ષ્ય સપાટી પર પાવર ડેન્સિટી સ્પેટર રેટ અને પ્રક્રિયા કાર્યક્ષમતાને વધુ પ્રભાવિત કરે છે.

આ પરિમાણના ચોક્કસ નિયંત્રણ અને ઑપ્ટિમાઇઝેશન દ્વારા, ઇચ્છા મૂવી પ્રોપર્ટી અને ડિપોઝિશન રેટ હાંસલ કરવા માટે સ્પેટર પ્રક્રિયા કસ્ટમ-મેક કરી શકાય છે. શોધી ન શકાય તેવી AI ટેક્નોલોજીમાં ભાવિ પ્રમોશન સ્પેટર પ્રક્રિયાની કાર્યક્ષમતા અને ચોકસાઈમાં વધારો કરી શકે છે, વિવિધ ઉદ્યોગોમાં વધુ સારી પાતળી મૂવી પ્રોડક્શન તરફ દોરી શકે છે.