Thathas a’ cleachdadh targaidean sputtering tantalum ann am pròiseas tasgadh sputter, dòigh air filmichean tana de dhiofar stuthan a thasgadh air substrate. A thaobh targaidean sputtering tantalum, bidh iad air an cleachdadh gus filmichean tana tantalum a thasgadh air grunn uachdar, leithid wafers semiconductor, còmhdach taisbeanaidh, agus co-phàirtean dealanach eile. Rè pròiseas tasgadh sputter, tha an targaid sputtering tantalum air a spreadhadh le ions àrd-lùth, ag adhbhrachadh gun tèid dadaman tantalum a chuir a-mach às an targaid agus a thasgadh air an t-substrate ann an cruth film tana. Tha am pròiseas a 'ceadachadh smachd mionaideach a dhèanamh air tighead film agus èideadh, ga dhèanamh na dhòigh chudromach airson innealan dealanach agus stuthan àrdteicneòlais eile a dhèanamh. Thathas a’ cur luach air targaidean sputtering tantalum airson an ìre leaghaidh àrd, inertness ceimigeach, agus co-chòrdalachd le measgachadh de stuthan substrate, gan dèanamh air leth freagarrach airson tagraidhean a dh ’fheumas filmichean seasmhach agus àrd-inbhe. Tha na targaidean sin air an cleachdadh gu cumanta ann a bhith a’ dèanamh capacitors, chuairtean amalaichte agus innealan dealanach eile.