De gemyske dampdeposysje (CVD) metoade fan diamant omfettet it brûken fan in gemysk proses om in diamantfilm of coating te synthesisearjen yn in kontroleare omjouwing. Yn dizze metoade wurdt in gasmingsel, typysk mei koalwetterstofgassen lykas metaan, ynfierd yn in reaksjekeamer tegearre mei in substraatmateriaal lykas molybdenumwafels of diamantwafels. It gas wurdt dan aktivearre troch ferskate middels, lykas waarmte of plasma, te brekken koalwetterstof molekulen en deponearje koalstof atomen op it substraat, resultearret yn de groei fan diamant kristallen.

It CVD-proses fan diamant biedt ferskate foardielen, ynklusyf de mooglikheid om diamantcoatings fan hege kwaliteit te produsearjen mei krekte kontrôle fan dikte, uniformiteit en komposysje. It lit ek de ôfsetting fan diamantfilms op in ferskaat oan substraatmaterialen mooglik meitsje, wêrtroch't de skepping fan diamant-coated dielen foar in ferskaat oan yndustriële en ûndersyksapplikaasjes mooglik is.

Oer it algemien is de CVD-metoade fan diamant in alsidige en in soad brûkte technyk foar it produsearjen fan syntetyske diamantfilms en -coatings mei oanpaste eigenskippen, wêrtroch't se weardefol binne yn yndustry lykas elektroanika, snij-ark en slijtbestindige coating.