Chine Disque de tungstène cible à 99,95 % de tungstène pur pour l'industrie Fabricant et fournisseur |Tungstène forgé

Disque de tungstène cible pur à 99,95 % de tungstène pour l'industrie

Brève description:

Les cibles et les disques en tungstène sont couramment utilisés dans diverses applications industrielles, notamment dans les processus de dépôt et de revêtement de couches minces.Le tungstène est connu pour son point de fusion élevé, son excellente conductivité thermique et sa résistance à la corrosion, ce qui en fait un matériau idéal pour de telles applications.

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Détail du produit

Mots clés du produit

Qu'est-ce qu'une cible en tungstène ?

Les cibles en tungstène sont un matériau spécialisé utilisé dans le processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et sont couramment utilisées pour produire des films minces pour diverses applications industrielles.Les cibles en tungstène sont généralement fabriquées à partir de tungstène de haute pureté et sont conçues pour déposer des films minces sur des substrats dans des systèmes PVD.

Dans le processus PVD, une source de haute énergie telle qu'un faisceau d'électrons ou un plasma est utilisée pour bombarder une cible en tungstène, provoquant l'éjection des atomes de la cible.Ces atomes éjectés traversent ensuite une chambre à vide et se déposent à la surface d'un substrat, formant un film mince.

Les cibles en tungstène sont appréciées pour leur point de fusion élevé, qui leur permet de résister aux températures élevées générées lors du PVD.De plus, l'excellente conductivité thermique et la résistance à la corrosion du tungstène en font un matériau idéal pour les systèmes PVD.

Les films minces produits à l'aide de cibles en tungstène ont un large éventail d'applications, notamment l'industrie des semi-conducteurs, l'optique, l'électronique et l'énergie solaire.Les propriétés du film, telles que la conductivité, la réflectivité et la dureté, peuvent être personnalisées en ajustant le processus de dépôt, faisant ainsi des cibles en tungstène un outil polyvalent pour la production industrielle de couches minces.

Pourquoi le tungstène est-il utilisé comme matériau cible ?

Le tungstène est utilisé comme cible dans le processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour plusieurs raisons :

1. Point de fusion élevé : Le tungstène a le point de fusion le plus élevé parmi tous les métaux, il est donc adapté pour résister aux températures élevées générées pendant le processus PVD.Cela permet à la cible en tungstène de résister aux contraintes thermiques et de maintenir son intégrité structurelle pendant le dépôt.

2. Conductivité thermique : Le tungstène a une excellente conductivité thermique et aide à dissiper la chaleur générée pendant le processus PVD.Cette propriété est essentielle pour maintenir la stabilité de la cible et garantir un dépôt uniforme du film.

3. Chimiquement inerte : le tungstène présente une forte résistance aux réactions chimiques et à la corrosion, ce qui en fait un matériau idéal pour le processus PVD.Dans le processus PVD, le matériau cible doit rester stable en présence de gaz réactifs ou de plasma à haute énergie.

4. Qualité du film : les cibles en tungstène peuvent produire des films de haute qualité avec des propriétés idéales telles qu'une densité élevée, une uniformité et une adhérence aux substrats, ce qui les rend adaptés à un large éventail d'applications industrielles.

Dans l’ensemble, la combinaison unique de propriétés présentées par le tungstène, notamment un point de fusion élevé, une conductivité thermique et une stabilité chimique, en fait une excellente cible dans le processus PVD, capable de produire une variété de films hautes performances.Applications industrielles.