تنگستن به چند دلیل به عنوان هدف در فرآیند رسوب بخار فیزیکی (PVD) استفاده می شود:

1. نقطه ذوب بالا: تنگستن دارای بالاترین نقطه ذوب در بین تمام فلزات است، بنابراین برای مقاومت در برابر دماهای بالا تولید شده در طول فرآیند PVD مناسب است.این به هدف تنگستن اجازه می دهد تا در برابر تنش حرارتی مقاومت کند و یکپارچگی ساختاری خود را در طول رسوب حفظ کند.

2. رسانایی حرارتی: تنگستن رسانایی حرارتی عالی دارد و به دفع گرمای تولید شده در طی فرآیند PVD کمک می کند.این ویژگی برای حفظ ثبات هدف و اطمینان از رسوب یکنواخت فیلم بسیار مهم است.

3. از نظر شیمیایی بی اثر: تنگستن دارای مقاومت قوی در برابر واکنش های شیمیایی و خوردگی است که آن را به یک ماده ایده آل برای فرآیند PVD تبدیل می کند.در فرآیند PVD، ماده مورد نظر باید در حضور گازهای واکنش پذیر یا پلاسمای پرانرژی پایدار بماند.

4. کیفیت فیلم: اهداف تنگستن می توانند فیلم هایی با کیفیت بالا با خواص ایده آل مانند چگالی بالا، یکنواختی و چسبندگی به بستر تولید کنند که آنها را برای طیف گسترده ای از کاربردهای صنعتی مناسب می کند.

به طور کلی، ترکیب منحصر به فرد خواصی که توسط تنگستن نشان داده شده است، از جمله نقطه ذوب بالا، هدایت حرارتی و پایداری شیمیایی، آن را به یک انتخاب هدف عالی در فرآیند PVD تبدیل کرده است که قادر به تولید انواع فیلم‌های با کارایی بالا است.کاربردهای صنعتی.