ویفر مولیبدن ورق الماس مولیبدن در CVD
روش رسوب بخار شیمیایی (CVD) الماس شامل استفاده از یک فرآیند شیمیایی برای سنتز یک فیلم یا پوشش الماس در یک محیط کنترل شده است. در این روش، یک مخلوط گازی که معمولاً حاوی گازهای هیدروکربنی مانند متان است، همراه با یک ماده زیرلایه مانند ویفرهای مولیبدن یا ویفرهای الماسی به محفظه واکنش وارد می شود. سپس این گاز با ابزارهای مختلفی مانند گرما یا پلاسما فعال می شود تا مولکول های هیدروکربن را تجزیه کند و اتم های کربن را روی بستر رسوب کند و در نتیجه بلورهای الماس رشد کند.
فرآیند CVD الماس چندین مزیت از جمله توانایی تولید پوشش های الماس با کیفیت بالا با کنترل دقیق ضخامت، یکنواختی و ترکیب را ارائه می دهد. همچنین اجازه می دهد تا لایه های الماس را بر روی انواع مواد زیرلایه قرار دهند و امکان ایجاد قطعات پوشش داده شده با الماس را برای انواع کاربردهای صنعتی و تحقیقاتی فراهم می کند.
به طور کلی، روش CVD الماس یک تکنیک همه کاره و پرکاربرد برای تولید فیلمها و پوششهای الماس مصنوعی با خواص سفارشی است که آنها را در صنایعی مانند الکترونیک، ابزارهای برش و پوششهای مقاوم در برابر سایش ارزشمند میکند.
سختی پوششهای رسوبدهی بخار شیمیایی (CVD) بسته به مواد خاص و پارامترهای فرآیند مورد استفاده میتواند متفاوت باشد. با این حال، پوششهای CVD به دلیل سختی استثنایی خود شناخته میشوند که اغلب از پوششهای رسوب بخار فیزیکی سنتی (PVD) فراتر میرود.
برای پوشش های CVD الماس، سختی به ویژه قابل توجه است. الماس یکی از سخت ترین مواد شناخته شده است و پوشش های الماس CVD دارای سختی استثنایی هستند که اغلب از انواع دیگر پوشش ها بیشتر است. سختی پوششهای الماس CVD معمولاً با استفاده از مقیاس سختی ویکرز اندازهگیری میشود و از 8000 HV تا بیش از 10000 HV متغیر است و آن را به یکی از سختترین و مقاومترین مواد در برابر سایش تبدیل میکند.
برای سایر پوششهای CVD، مانند پوششهای مبتنی بر کاربید یا نیترید، سختی میتواند بالا باشد و مقاومت در برابر سایش و دوام عالی را در انواع کاربردهای صنعتی ارائه دهد.
به طور کلی، پوششهای CVD به دلیل سختی استثناییشان ارزشمند هستند، و برای کاربردهایی که مقاومت در برابر سایش، پایداری در دمای بالا و عملکرد طولانیمدت حیاتی هستند، مناسب هستند.
وی چت: 15138768150
واتساپ: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com