هدف کندوپاش تیتانیوم با خلوص بالا برای پوشش خلاء
اهداف کندوپاش مواد با خلوص بالا هستند که در فرآیندهای رسوب بخار فیزیکی (PVD) به ویژه فناوری کندوپاش استفاده می شوند. این مواد برای تشکیل لایه های نازک بر روی بسترها در صنایع مختلف از جمله ساخت نیمه هادی ها، پوشش های نوری و رسوب لایه نازک برای دستگاه های الکترونیکی استفاده می شوند.
مواد هدف Sputter را می توان از عناصر و ترکیبات مختلفی از جمله فلزات، آلیاژها، اکسیدها و نیتریدها تهیه کرد. انتخاب ماده هدف پاشش به خواص خاص مورد نیاز برای پوشش لایه نازک مانند هدایت الکتریکی، خواص نوری، سختی و مقاومت شیمیایی بستگی دارد.
اهداف رایج کندوپاش شامل فلزاتی مانند تیتانیوم، آلومینیوم و مس و همچنین ترکیباتی مانند اکسید قلع ایندیم (ITO) و اکسیدهای فلزی مختلف است. انتخاب مواد هدف کندوپاش مناسب برای دستیابی به ویژگی ها و عملکرد مطلوب پوشش های لایه نازک بسیار مهم است.
اهداف کندوپاش بسته به نیازهای خاص فرآیند رسوب لایه نازک و تجهیزات کندوپاش در اندازه‌های مختلفی وجود دارند. اندازه هدف کندوپاش می تواند از چند سانتی متر تا ده ها سانتی متر قطر داشته باشد و ضخامت آن نیز می تواند متفاوت باشد.
اندازه هدف کندوپاش با عواملی مانند اندازه بستری که قرار است پوشش داده شود، پیکربندی سیستم کندوپاش و میزان رسوب و یکنواختی مورد نظر تعیین می شود. علاوه بر این، اندازه هدف کندوپاش ممکن است تحت تأثیر الزامات خاص برنامه لایه نازک، مانند ناحیه پوشش داده شده و پارامترهای فرآیند کلی قرار گیرد.
در نهایت، اندازه هدف کندوپاش برای اطمینان از رسوب کارآمد و یکنواخت فیلم بر روی بستر انتخاب می‌شود، که نیازهای خاص فرآیند پوشش لایه نازک در تولید نیمه‌رسانا، پوشش‌های نوری و سایر کاربردهای مرتبط را برآورده می‌کند.
چندین راه برای افزایش سرعت کندوپاش در فرآیند کندوپاش وجود دارد:
1. بهینه سازی قدرت و فشار: تنظیم پارامترهای قدرت و فشار در سیستم کندوپاش می تواند بر نرخ کندوپاش تأثیر بگذارد. افزایش قدرت و بهینه سازی شرایط فشار می تواند سرعت کندوپاش را افزایش داده و منجر به رسوب سریع تر لایه نازک شود.
2. مواد و هندسه هدف: استفاده از اهداف کندوپاش با ترکیب و هندسه بهینه مواد می تواند سرعت کندوپاش را بهبود بخشد. اهداف کندوپاش با کیفیت بالا و به خوبی طراحی شده می توانند راندمان کندوپاش را افزایش داده و منجر به نرخ رسوب بالاتر شود.
3. آماده سازی سطح هدف: تمیز کردن و تهویه مناسب سطح هدف کندوپاش می تواند به افزایش نرخ کندوپاش کمک کند. اطمینان از عاری بودن سطح هدف از آلاینده ها و اکسیدها می تواند کارایی کندوپاش را بهبود بخشد.
4. دمای بستر: کنترل دمای بستر می تواند بر سرعت کندوپاش تاثیر بگذارد. در برخی موارد، افزایش دمای بستر در محدوده معینی می تواند منجر به افزایش نرخ کندوپاش و بهبود کیفیت فیلم شود.
5. جریان و ترکیب گاز: بهینه سازی جریان و ترکیب گاز در محفظه کندوپاش می تواند بر سرعت کندوپاش تاثیر بگذارد. تنظیم نرخ جریان گاز و استفاده از مخلوط های گاز کندوپاش مناسب می تواند کارایی فرآیند کندوپاش را افزایش دهد.
با در نظر گرفتن دقیق این عوامل و بهینه سازی پارامترهای فرآیند کندوپاش، می توان نرخ کندوپاش را افزایش داد و کارایی کلی رسوب لایه نازک را در کاربردهای کندوپاش بهبود داد.
وی چت: 15138768150
واتساپ: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
