Disco de tungsteno objetivo de tungsteno puro al 99,95% de China para la industria Fabricante y proveedor |Tungsteno forjado

Disco de tungsteno objetivo de tungsteno puro al 99,95% para la industria

Breve descripción:

Los objetivos y discos de tungsteno se utilizan comúnmente en una variedad de aplicaciones industriales, especialmente en procesos de recubrimiento y deposición de películas delgadas.El tungsteno es conocido por su alto punto de fusión, excelente conductividad térmica y resistencia a la corrosión, lo que lo convierte en un material ideal para este tipo de aplicaciones.

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¿Qué es un objetivo de tungsteno?

Los objetivos de tungsteno son un material especializado que se utiliza en el proceso de deposición física de vapor (PVD) y se usan comúnmente para producir películas delgadas para una variedad de aplicaciones industriales.Los objetivos de tungsteno suelen estar hechos de tungsteno de alta pureza y están diseñados para depositar películas delgadas sobre sustratos en sistemas PVD.

En el proceso PVD, se utiliza una fuente de alta energía, como un haz de electrones o plasma, para bombardear un objetivo de tungsteno, lo que provoca que los átomos sean expulsados del objetivo.Estos átomos expulsados luego pasan a través de una cámara de vacío y se depositan sobre la superficie de un sustrato, formando una película delgada.

Los objetivos de tungsteno son valorados por su alto punto de fusión, lo que les permite soportar las altas temperaturas generadas durante el PVD.Además, la excelente conductividad térmica y la resistencia a la corrosión del tungsteno lo convierten en un material ideal para sistemas PVD.

Las películas delgadas producidas con objetivos de tungsteno tienen una amplia gama de aplicaciones, incluida la industria de los semiconductores, la óptica, la electrónica y la energía solar.Las propiedades de la película, como la conductividad, la reflectividad y la dureza, se pueden personalizar ajustando el proceso de deposición, lo que convierte a los objetivos de tungsteno en una herramienta versátil para la producción industrial de películas delgadas.

¿Por qué se utiliza el tungsteno como material objetivo?

El tungsteno se utiliza como objetivo en el proceso de deposición física de vapor (PVD) por varias razones:

1. Alto punto de fusión: El tungsteno tiene el punto de fusión más alto entre todos los metales, por lo que es adecuado para soportar las altas temperaturas generadas durante el proceso PVD.Esto permite que el objetivo de tungsteno resista el estrés térmico y mantenga su integridad estructural durante la deposición.

2. Conductividad térmica: el tungsteno tiene una excelente conductividad térmica y ayuda a disipar el calor generado durante el proceso de PVD.Esta propiedad es fundamental para mantener la estabilidad del objetivo y garantizar la deposición uniforme de la película.

3. Químicamente inerte: el tungsteno tiene una fuerte resistencia a las reacciones químicas y a la corrosión, lo que lo convierte en un material ideal para el proceso PVD.En el proceso PVD, el material objetivo debe permanecer estable en presencia de gases reactivos o plasma de alta energía.

4. Calidad de la película: los objetivos de tungsteno pueden producir películas de alta calidad con propiedades ideales como alta densidad, uniformidad y adhesión a sustratos, lo que las hace adecuadas para una amplia gama de aplicaciones industriales.

En general, la combinación única de propiedades exhibidas por el tungsteno, incluido un alto punto de fusión, conductividad térmica y estabilidad química, lo convierten en una excelente opción de destino en el proceso PVD, capaz de producir una variedad de películas de alto rendimiento.Aplicaciones industriales.