Disco de tungsteno objetivo de tungsteno puro al 99,95% para la industria

Breve descripción:

Los objetivos y discos de tungsteno se utilizan comúnmente en una variedad de aplicaciones industriales, especialmente en procesos de recubrimiento y deposición de películas delgadas. El tungsteno es conocido por su alto punto de fusión, excelente conductividad térmica y resistencia a la corrosión, lo que lo convierte en un material ideal para este tipo de aplicaciones.


Detalle del producto

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Descripciones de productos

El material objetivo de tungsteno es un producto elaborado a partir de polvo de tungsteno puro y tiene una apariencia de color blanco plateado. Es popular en muchos campos debido a sus excelentes propiedades físicas y químicas. La pureza de los materiales objetivo de tungsteno generalmente puede alcanzar el 99,95% o más, y tienen características como baja resistencia, alto punto de fusión, bajo coeficiente de expansión, baja presión de vapor, no toxicidad y no radioactividad. Además, los materiales objetivo de tungsteno también tienen buena estabilidad termoquímica y no son propensos a la expansión o contracción del volumen, reacciones químicas con otras sustancias y otros fenómenos.

Especificaciones del producto

 

Dimensiones Como su requisito
Lugar de origen Luoyang, Henan
Nombre de la marca DGF
Solicitud Médico, industria, semiconductor
Forma Redondo
Superficie Pulido
Pureza 99,95%
Calificación W1
Densidad 19,3g/cm3
Punto de fusión 3420℃
Punto de ebullición 5555℃
objetivo de tungsteno (2)

Composición química

Componentes principales

W>99,95%

Contenido de impurezas≤

Pb

0.0005

Fe

0.0020

S

0.0050

P

0.0005

C

0,01

Cr

0.0010

Al

0.0015

Cu

0.0015

K

0.0080

N

0.003

Sn

0.0015

Si

0.0020

Ca

0.0015

Na

0.0020

O

0.008

Ti

0.0010

Mg

0.0010

Especificaciones comunes

Diámetro

ø25,4 mm ø50mm φ50.8mm ø60mm ø76,2 mm φ80.0mm ø101,6 mm ø100mm
Espesor 3mm 4mm 5mm 6mm 6.35    

¿Por qué elegirnos?

1. Nuestra fábrica está ubicada en la ciudad de Luoyang, provincia de Henan. Luoyang es una zona de producción de minas de tungsteno y molibdeno, por lo que tenemos ventajas absolutas en calidad y precio;

2. Nuestra empresa cuenta con personal técnico con más de 15 años de experiencia y brindamos soluciones y sugerencias específicas para las necesidades de cada cliente.

3. Todos nuestros productos se someten a estrictas inspecciones de calidad antes de ser exportados.

4. Si recibe productos defectuosos, puede contactarnos para obtener un reembolso.

objetivo de tungsteno (3)

Flujo de producción

1.Método de pulvimetalurgia

(Presione el polvo de tungsteno para darle forma y luego sinterícelo a alta temperatura en una atmósfera de hidrógeno)

2. preparación de materiales objetivo de pulverización catódica

(Deposición de material de tungsteno sobre un sustrato para formar una película delgada)

3. prensado isostático en caliente

(Tratamiento de densificación del material de tungsteno mediante la aplicación simultánea de alta temperatura y alta presión)

4.Método de fusión

(Utilice alta temperatura para derretir completamente el tungsteno y luego fabrique los materiales objetivo mediante fundición u otros procesos de formación)

5. Deposición química de vapor

(Método de descomposición del precursor gaseoso a alta temperatura y depósito de tungsteno sobre el sustrato)

Aplicaciones

Tecnología de recubrimiento de película delgada: los objetivos de tungsteno también se usan ampliamente en tecnologías de recubrimiento de película delgada, como la deposición física de vapor (PVD) y la deposición química de vapor (CVD). En el proceso PVD, el objetivo de tungsteno es bombardeado por iones de alta energía, se evapora y se deposita en la superficie de la oblea, formando una película densa de tungsteno. Esta película tiene una dureza y resistencia al desgaste extremadamente altas, lo que puede mejorar eficazmente la resistencia mecánica y la durabilidad de los dispositivos semiconductores. En el proceso CVD, el material objetivo de tungsteno se deposita en la superficie de la oblea mediante una reacción química a alta temperatura para formar un recubrimiento uniforme, que es particularmente adecuado para su uso en dispositivos semiconductores de alta potencia y alta frecuencia.

objetivo de tungsteno

Certificados

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Diagrama de envío

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objetivo de tungsteno (5)
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Preguntas frecuentes

¿Cuáles son las principales ventajas de los materiales objetivo de tungsteno?

El molibdeno se utiliza a menudo como material objetivo en mamografía debido a sus propiedades favorables para obtener imágenes del tejido mamario. El molibdeno tiene un número atómico relativamente bajo, lo que significa que los rayos X que produce son ideales para obtener imágenes de tejidos blandos como la mama. El molibdeno produce rayos X característicos con niveles de energía más bajos, lo que los hace ideales para observar diferencias sutiles en la densidad del tejido mamario.

Además, el molibdeno tiene buenas propiedades de conductividad térmica, lo cual es importante en equipos de mamografía donde son comunes las exposiciones repetidas a rayos X. La capacidad de disipar el calor de forma eficaz ayuda a mantener la estabilidad y el rendimiento de los tubos de rayos X durante períodos prolongados de uso.

En general, el uso de molibdeno como material objetivo en mamografía ayuda a optimizar la calidad de las imágenes mamarias al proporcionar propiedades de rayos X apropiadas para esta aplicación específica.

¿Cuáles son las desventajas de los materiales objetivo de tungsteno?

Alta fragilidad: los materiales objetivo de tungsteno tienen una alta fragilidad y son susceptibles al impacto y la vibración, lo que puede causar daños.
Alto costo de fabricación: el costo de fabricación del material objetivo de tungsteno es relativamente alto porque su proceso de producción requiere una serie de procedimientos complejos y equipos de procesamiento de alta precisión.
Dificultad de soldadura: soldar materiales objetivo de tungsteno es relativamente difícil y requiere procesos y técnicas de soldadura especiales para garantizar la integridad de su estructura y rendimiento.
Alto coeficiente de expansión térmica: el material objetivo de tungsteno tiene un alto coeficiente de expansión térmica, por lo que cuando se usa en ambientes de alta temperatura, se debe prestar atención a sus cambios de tamaño y a la influencia del estrés térmico.


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