La kemia vapordemetado (CVD) metodo de diamanto implikas uzi kemian procezon por sintezi diamantfilmon aŭ tegaĵon en kontrolita medio. En tiu metodo, gasmiksaĵo, tipe enhavanta hidrokarbidgasojn kiel ekzemple metano, estas enkondukita en reagkamero kune kun substratmaterialo kiel ekzemple molibdenoblatoj aŭ diamantoblatoj. La gaso tiam estas aktivigita per diversaj rimedoj, kiel ekzemple varmo aŭ plasmo, por malkonstrui hidrokarbidmolekulojn kaj deponi karbonatomojn sur la substrato, rezultigante la kreskon de diamantkristaloj.

La CVD-procezo de diamanto ofertas plurajn avantaĝojn, inkluzive de la kapablo produkti altkvalitajn diamantajn tegaĵojn kun preciza kontrolo de dikeco, unuformeco kaj komponado. Ĝi ankaŭ permesas la deponadon de diamantaj filmoj sur diversaj substrataj materialoj, ebligante la kreadon de diamant-tegitaj partoj por diversaj industriaj kaj esploraj aplikoj.

Ĝenerale, la CVD-metodo de diamanto estas diverstalenta kaj vaste uzata tekniko por produkti sintezajn diamantajn filmojn kaj tegaĵojn kun personecigitaj propraĵoj, igante ilin valoraj en industrioj kiel elektroniko, tranĉiloj kaj eluziĝo-rezistemaj tegaĵoj.