99,95 % ren tantal-forstøvningsmål
Tantalforstøvningsmål fremstilles normalt ved hjælp af pulvermetallurgiske processer.
I denne metode komprimeres og sintres tantalpulver til en solid tantalplade. De sintrede plader bearbejdes derefter gennem forskellige formningsprocesser, såsom bearbejdning eller valsning, for at opnå de ønskede dimensioner og overfladefinish. Det endelige produkt renses og inspiceres derefter for at sikre, at det opfylder de specifikationer, der kræves til sputterapplikationen. Denne produktionsmetode sikrer, at tantalforstøvningsmålene har den nødvendige renhed, tæthed og mikrostruktur for at opnå optimal ydeevne i tyndfilmsdepositionsprocesser.
Tantalforstøvningsmål anvendes i sputteraflejringsprocessen, en metode til at afsætte tynde film af forskellige materialer på et substrat. I tilfælde af tantalforstøvningsmål bruges de til at afsætte tynde tantalfilm på en række forskellige overflader, såsom halvlederskiver, displaybelægninger og andre elektroniske komponenter. Under sputteraflejringsprocessen bombarderes tantalforstøvningsmålet af højenergi-ioner, hvilket forårsager, at tantalatomer udstødes fra målet og aflejres på substratet i form af en tynd film. Processen tillader præcis kontrol af filmtykkelse og ensartethed, hvilket gør det til en vigtig metode til fremstilling af elektroniske enheder og andre højteknologiske produkter. Tantalsputteringsmål er værdsat for deres høje smeltepunkt, kemiske inertitet og kompatibilitet med en række forskellige substratmaterialer, hvilket gør dem ideelle til applikationer, der kræver holdbare film af høj kvalitet. Disse mål er almindeligt anvendt i produktionen af kondensatorer, integrerede kredsløb og andre elektroniske enheder.
Wechat: 15138768150
WhatsApp: +86 15236256690
E-mail : jiajia@forgedmoly.com
