Technologie vakuového napařování pro metalizaci zahrnuje nanášení tenkých vrstev kovu na substráty pomocí prostředí vysokého vakua a procesu fyzikálního napařování (PVD).Při této technologii se kovový zdrojový materiál, jako je hliník, zlato nebo stříbro, zahřívá v odpařovací nádobě, což způsobí, že se odpaří a poté kondenzuje na substrátu za vzniku tenkého a jednotného kovového filmu.

Kroky zahrnuté v technologii metalizačního vakuového napařování obecně zahrnují:

1. Příprava: Očistěte substrát, který má být pokovován, a umístěte jej do vakuové komory.

2. Odpařování: Kovový zdrojový materiál vložte do odpařovacího člunu, jako je wolframový člun, a zahřejte jej na odpařovací teplotu ve vysokém vakuu.Když se kov vypařuje, pohybuje se přímočaře k substrátu.

3. Depozice: Kovové páry kondenzují na podkladu a vytvářejí tenký film, který přilne k povrchu.

4. Růst filmu: Proces nanášení pokračuje, dokud není dosaženo požadované tloušťky kovového filmu.

5. Následné zpracování: Po metalizaci může substrát projít dalšími zpracovatelskými kroky, jako je žíhání nebo potahování, aby se zlepšily vlastnosti kovového filmu.

Technologie vakuového napařování je široce používána v průmyslových odvětvích, jako je elektronika, optika a automobilový průmysl, kde se kovové fólie nanášejí na substráty pro dosažení vodivých, reflexních nebo dekorativních povrchových úprav.