China puri 99.95% tungsten target tungsten disc per l'industria Fabbricante è Supplier |Tungsten forgiatu

Puru 99.95% tungsten target tungsten disc per l'industria

Breve descrizzione:

Obiettivi di tungstenu è dischi di tungstenu sò cumunimenti usati in una varietà di applicazioni industriali, in particulare in i prucessi di deposizione di film sottile è di rivestimentu.U tungstenu hè cunnisciutu per u so altu puntu di fusione, un'eccellente conduttività termale è a resistenza à a corrosione, facendu un materiale ideale per tali applicazioni.

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Chì ghjè un mira di tungstenu?

I miri di tungstenu sò un materiale specializatu utilizatu in u prucessu di deposizione fisica di vapore (PVD) è sò comunmente usati per pruduce filmi sottili per una varietà di applicazioni industriali.L'obiettivi di tungstenu sò tipicamente fatti di tungstenu d'alta purezza è sò pensati per deposità filmi sottili nantu à sustrati in sistemi PVD.

In u prucessu PVD, una fonte d'alta energia, cum'è un fasciu d'elettroni o plasma, hè utilizatu per bombardà un mira di tungstenu, facendu chì l'atomi sò espulsi da u mira.Questi atomi ejected poi passanu per una camera di vacuum è sò dipositati nantu à a superficia di un sustrato, furmendu una film fina.

I miri di tungstenu sò valutati per u so puntu di fusione elevatu, chì li permette di sustene l'alte temperature generate durante PVD.Inoltre, l'eccellente conduttività termica di u tungstenu è a resistenza à a corrosione facenu un materiale ideale per i sistemi PVD.

I filmi sottili pruduciuti cù miri di tungstenu anu una larga gamma di applicazioni cumprese l'industria di i semiconduttori, l'ottica, l'elettronica è l'energia solare.Pruprietà di film, cum'è a conduttività, a riflettività è a durezza, ponu esse persunalizati aghjustendu u prucessu di depositu, facendu i target di tungstenu un strumentu versatile per a produzzione industriale di film sottili.

Perchè u tungstenu hè usatu cum'è materiale di destinazione?

U tungstenu hè utilizatu com'è mira in u prucessu di deposizione fisica di vapore (PVD) per parechje ragioni:

1. Puntu di fusione altu: Tungsten hà u puntu di fusione più altu trà tutti i metalli, per quessa hè adattatu per resiste à e alte temperature generate durante u prucessu PVD.Questu permette à l'obiettivu di tungstenu per sustene u stress termicu è mantene a so integrità strutturale durante a deposizione.

2. Conduttività termale: Tungsten hà una conductività termale eccellente è aiuta à dissipate u calore generatu durante u prucessu PVD.Sta pruprietà hè critica per mantene a stabilità di u mira è assicurà a deposizione uniforme di film.

3. Inerte chimicamente: Tungsten hà una forte resistenza à reazzione chimica è a curruzzione, facendu un materiale ideale per u prucessu PVD.In u prucessu PVD, u materiale di destinazione deve esse stabile in presenza di gasi reattivi o plasma d'alta energia.

4. Qualità di film: i miri di tungstenu ponu pruduce filmi d'alta qualità cù pruprietà ideali cum'è alta densità, uniformità è aderenza à i sustrati, chì li facenu adattati per una larga gamma di applicazioni industriali.

In generale, a cumminazione unica di pruprietà esibita da u tungstenu, cumpresu un altu puntu di fusione, a conduttività termica è a stabilità chimica, facenu una scelta eccellente di destinazione in u prucessu PVD, capace di pruduce una varietà di filmi d'altu rendiment.Applicazioni industriali.