Ang kemikal nga vapor deposition (CVD) nga pamaagi sa diamante naglakip sa paggamit sa kemikal nga proseso sa pag-synthesize sa usa ka diamante nga pelikula o coating sa usa ka kontrolado nga palibot. Niini nga pamaagi, ang usa ka sagol nga gas, kasagaran adunay mga hydrocarbon gas sama sa methane, gipasulod sa usa ka reaction chamber kauban ang substrate nga materyal sama sa molybdenum wafers o diamond wafers. Ang gas dayon gi-aktibo sa lainlaing paagi, sama sa kainit o plasma, aron mabungkag ang mga molekula sa hydrocarbon ug magdeposito sa mga atomo sa carbon sa substrate, nga moresulta sa pagtubo sa mga kristal nga diamante.

Ang proseso sa CVD sa diamante nagtanyag daghang mga bentaha, lakip ang abilidad sa paghimo og taas nga kalidad nga mga coating sa diamante nga adunay tukma nga pagkontrol sa gibag-on, pagkaparehas ug komposisyon. Gitugotan usab niini ang pagdeposito sa mga pelikula sa diamante sa lainlaing mga materyal sa substrate, nga makapahimo sa paghimo sa mga bahin nga adunay sapaw sa diamante alang sa lainlaing mga aplikasyon sa industriya ug panukiduki.

Sa kinatibuk-an, ang CVD nga pamaagi sa diamante usa ka versatile ug kaylap nga gigamit nga teknik alang sa paghimo og sintetikong diamante nga mga pelikula ug mga coat nga adunay customized nga mga kabtangan, nga naghimo kanila nga bililhon sa mga industriya sama sa electronics, cutting tools, ug wear-resistant coatings.