El mètode de deposició de vapor químic (CVD) del diamant implica l'ús d'un procés químic per sintetitzar una pel·lícula o un recobriment de diamant en un entorn controlat. En aquest mètode, una mescla de gasos, que normalment conté gasos hidrocarburs com el metà, s'introdueix en una cambra de reacció juntament amb un material de substrat com hòsties de molibdè o hòsties de diamant. Aleshores, el gas s'activa per diversos mitjans, com ara calor o plasma, per trencar molècules d'hidrocarburs i dipositar àtoms de carboni al substrat, donant lloc al creixement de cristalls de diamant.

El procés CVD del diamant ofereix diversos avantatges, inclosa la capacitat de produir recobriments de diamant d'alta qualitat amb un control precís del gruix, la uniformitat i la composició. També permet la deposició de pel·lícules de diamant sobre una varietat de materials de substrat, permetent la creació de peces recobertes de diamant per a una varietat d'aplicacions industrials i de recerca.

En general, el mètode CVD del diamant és una tècnica versàtil i àmpliament utilitzada per produir pel·lícules i recobriments de diamant sintètic amb propietats personalitzades, cosa que els fa valuosos en indústries com l'electrònica, eines de tall i recobriments resistents al desgast.