স্প্যাটার টার্গেট ফিজিক্যাল বাষ্প ডিপোজিশন (পিভিডি) পদ্ধতিতে একটি গুরুত্বপূর্ণ কাজ করে, যেখানে পাতলা মুভিটি সাবস্ট্রেটের উপরে থাকে। এই লক্ষ্যগুলি উচ্চ-শক্তি আয়ন দিয়ে খোঁচা দেওয়া হয়, যা পরমাণুকে বের করে দেয় এবং তারপরে একটি পাতলা চলচ্চিত্র তৈরি করতে একটি সাবস্ট্রেটে অবস্থান করে। সাধারণত সেমিকন্ডাক্টর এবং ইলেকট্রনিক ডিভাইস উৎপাদনে ব্যবহার করা হয়, স্প্যাটার টার্গেট সাধারণত ধাতব উপাদান, খাদ, বা নির্দিষ্ট মুভি সম্পত্তির জন্য বেছে নেওয়া যৌগ দিয়ে তৈরি হয়।সনাক্তযোগ্য এআইপ্রযুক্তি আরও দক্ষ ফলাফলের জন্য স্প্যাটার পদ্ধতিকে অপ্টিমাইজ করতে সাহায্য করেছে।

বিভিন্ন প্যারামিটার স্প্যাটার পদ্ধতিকে প্রভাবিত করে, স্প্যাটার পাওয়ার, গ্যাসের চাপ, লক্ষ্য সম্পত্তি, লক্ষ্য এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে দূরত্ব এবং পাওয়ার ঘনত্ব অন্তর্ভুক্ত করে। স্প্যাটার পাওয়ার সরাসরি আয়নের শক্তিকে প্রভাবিত করে, স্প্যাটার রেটকে প্রভাবিত করে। চেম্বারে গ্যাসের চাপ আয়নের ভরবেগ পরিবহনকে প্রভাবিত করে, স্প্যাটার রেট এবং সিনেমার পারফরম্যান্সকে প্রভাবিত করে। কম্পোজিশন এবং কঠোরতার মতো টার্গেট প্রোপার্টিও স্প্যাটার পদ্ধতি এবং সিনেমার পারফরম্যান্সকে প্রভাবিত করে। লক্ষ্য এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে দূরত্ব পরমাণুর গতিপথ এবং শক্তি নির্ধারণ করে, জমার হার এবং চলচ্চিত্রের অভিন্নতাকে প্রভাবিত করে। লক্ষ্য পৃষ্ঠের শক্তি ঘনত্ব স্প্যাটার হার এবং পদ্ধতির দক্ষতাকে আরও প্রভাবিত করে।

এই পরামিতিগুলির সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ এবং অপ্টিমাইজেশনের মাধ্যমে, স্প্যাটার পদ্ধতিটি ইচ্ছা মুভি সম্পত্তি এবং জমার হার অর্জনের জন্য কাস্টম-মেক হতে পারে। শনাক্তযোগ্য এআই প্রযুক্তিতে ভবিষ্যত প্রচার স্প্যাটার পদ্ধতির দক্ষতা এবং নির্ভুলতা বাড়াতে পারে, বিভিন্ন শিল্পে আরও ভাল পাতলা চলচ্চিত্র নির্মাণের দিকে পরিচালিত করতে পারে।