ভ্যাকুয়াম আবরণ জন্য উচ্চ বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম sputtering লক্ষ্য
স্পাটার টার্গেটগুলি হল উচ্চ-বিশুদ্ধতা পদার্থ যা শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়, বিশেষত স্পুটারিং প্রযুক্তি। এই উপকরণগুলি সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন, অপটিক্যাল আবরণ এবং ইলেকট্রনিক ডিভাইসগুলির জন্য পাতলা ফিল্ম জমা সহ বিভিন্ন শিল্পে সাবস্ট্রেটগুলিতে পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।
ধাতু, সংকর, অক্সাইড এবং নাইট্রাইড সহ বিভিন্ন উপাদান এবং যৌগ থেকে স্পাটার টার্গেট উপকরণ তৈরি করা যেতে পারে। স্পুটার টার্গেট উপাদানের পছন্দ পাতলা ফিল্ম আবরণের জন্য প্রয়োজনীয় নির্দিষ্ট বৈশিষ্ট্যের উপর নির্ভর করে, যেমন বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা, অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য, কঠোরতা এবং রাসায়নিক প্রতিরোধের।
টাইটানিয়াম, অ্যালুমিনিয়াম এবং তামার মতো ধাতু এবং সেইসাথে ইন্ডিয়াম টিন অক্সাইড (ITO) এবং বিভিন্ন ধাতব অক্সাইডের মতো যৌগগুলি অন্তর্ভুক্ত করে। পাতলা ফিল্ম আবরণের কাঙ্খিত বৈশিষ্ট্য এবং কর্মক্ষমতা অর্জনের জন্য উপযুক্ত স্পুটারিং লক্ষ্য উপাদান নির্বাচন করা গুরুত্বপূর্ণ।
স্পটারিং লক্ষ্যগুলি পাতলা ফিল্ম জমা করার প্রক্রিয়া এবং স্পটারিং সরঞ্জামগুলির নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তার উপর নির্ভর করে বিভিন্ন আকারে আসে। স্পুটারিং টার্গেটের আকার কয়েক সেন্টিমিটার থেকে দশ সেন্টিমিটার ব্যাস পর্যন্ত হতে পারে এবং পুরুত্বও পরিবর্তিত হতে পারে।
স্পুটারিং টার্গেটের আকার প্রলিপ্ত করা সাবস্ট্রেটের আকার, স্পুটারিং সিস্টেমের কনফিগারেশন এবং কাঙ্ক্ষিত জমার হার এবং অভিন্নতার মতো কারণগুলির দ্বারা নির্ধারিত হয়। অতিরিক্তভাবে, স্পুটারিং টার্গেটের আকার পাতলা ফিল্ম অ্যাপ্লিকেশনের নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তার দ্বারা প্রভাবিত হতে পারে, যেমন প্রলিপ্ত এলাকা এবং সামগ্রিক প্রক্রিয়া পরামিতি।
শেষ পর্যন্ত, অর্ধপরিবাহী উত্পাদন, অপটিক্যাল আবরণ এবং অন্যান্য সম্পর্কিত অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে পাতলা ফিল্ম আবরণ প্রক্রিয়ার নির্দিষ্ট চাহিদা মেটাতে, সাবস্ট্রেটের উপর ফিল্মের দক্ষ এবং অভিন্ন জমা নিশ্চিত করতে স্পুটার টার্গেটের আকার নির্বাচন করা হয়।
স্পাটারিং প্রক্রিয়ায় স্পাটারিং রেট বাড়ানোর বিভিন্ন উপায় রয়েছে:
1. শক্তি এবং চাপ অপ্টিমাইজেশান: স্পটারিং সিস্টেমে শক্তি এবং চাপের পরামিতি সামঞ্জস্য করা স্পাটারিং হারকে প্রভাবিত করতে পারে। শক্তি বৃদ্ধি এবং চাপের অবস্থার অপ্টিমাইজ করা স্পুটারিং হারকে বাড়িয়ে তুলতে পারে, যার ফলে পাতলা ফিল্ম দ্রুত জমা হয়।
2. লক্ষ্যবস্তু এবং জ্যামিতি: অপ্টিমাইজ করা উপাদান গঠন এবং জ্যামিতি সহ স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি ব্যবহার করে স্পুটারিং হার উন্নত করতে পারে। উচ্চ-মানের, ভাল-পরিকল্পিত স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি স্পটারিং দক্ষতা বাড়াতে পারে এবং উচ্চ জমার হারের দিকে নিয়ে যেতে পারে।
3. টার্গেট সারফেস প্রিপারেশন: স্পুটারিং টার্গেট সারফেস সঠিকভাবে পরিষ্কার করা এবং কন্ডিশনিং স্পুটারিং রেট বৃদ্ধিতে অবদান রাখতে পারে। লক্ষ্য পৃষ্ঠ দূষক এবং অক্সাইড থেকে মুক্ত তা নিশ্চিত করা স্পুটারিং দক্ষতা উন্নত করতে পারে।
4. সাবস্ট্রেট টেম্পারেচার: সাবস্ট্রেট টেম্পারেচার কন্ট্রোল করলে স্পুটারিং রেট প্রভাবিত হতে পারে। কিছু ক্ষেত্রে, একটি নির্দিষ্ট সীমার মধ্যে সাবস্ট্রেটের তাপমাত্রা বাড়ানোর ফলে স্পুটারিং হার বৃদ্ধি এবং ফিল্মের গুণমান উন্নত হতে পারে।
5. গ্যাসের প্রবাহ এবং গঠন: স্পটারিং চেম্বারে গ্যাসের প্রবাহ এবং গঠনকে অপ্টিমাইজ করা স্পাটারিং রেটকে প্রভাবিত করতে পারে। গ্যাস প্রবাহের হার সামঞ্জস্য করা এবং উপযুক্ত স্পটারিং গ্যাসের মিশ্রণ ব্যবহার করা স্পুটারিং প্রক্রিয়ার দক্ষতা বাড়াতে পারে।
এই বিষয়গুলিকে সাবধানে বিবেচনা করে এবং স্পটারিং প্রক্রিয়ার পরামিতিগুলিকে অপ্টিমাইজ করে, স্পাটারিং রেট বৃদ্ধি করা এবং স্পাটারিং অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে পাতলা ফিল্ম জমার সামগ্রিক দক্ষতা উন্নত করা সম্ভব।
ওয়েচ্যাট: 15138768150
হোয়াটসঅ্যাপ: +86 15838517324
E-mail : jiajia@forgedmoly.com