Китай чист 99,95% волфрамов целеви волфрамов диск за индустрията Производител и доставчик |Кован Волфрам

чист 99,95% волфрамов целеви волфрамов диск за индустрията

Кратко описание:

Волфрамовите мишени и волфрамовите дискове обикновено се използват в различни индустриални приложения, особено при процеси на отлагане на тънък слой и покритие.Волфрамът е известен със своята висока точка на топене, отлична топлопроводимост и устойчивост на корозия, което го прави идеален материал за такива приложения.

Изпратете имейл до нас Изтеглете като PDF

Подробности за продукта

Продуктови етикети

Какво е волфрамова цел?

Волфрамовите мишени са специализиран материал, използван в процеса на физическо отлагане на пари (PVD) и обикновено се използват за производство на тънки филми за различни индустриални приложения.Волфрамовите мишени обикновено се правят от волфрам с висока чистота и са проектирани за отлагане на тънки филми върху субстрати в PVD системи.

В PVD процеса високоенергиен източник като електронен лъч или плазма се използва за бомбардиране на волфрамова мишена, което води до изхвърляне на атоми от мишената.След това тези изхвърлени атоми преминават през вакуумна камера и се отлагат върху повърхността на субстрата, образувайки тънък филм.

Волфрамовите цели се ценят заради високата си точка на топене, която им позволява да издържат на високите температури, генерирани по време на PVD.В допълнение, отличната топлопроводимост и устойчивост на корозия на волфрама го правят идеален материал за PVD системи.

Тънките филми, произведени с помощта на волфрамови мишени, имат широк спектър от приложения, включително полупроводниковата индустрия, оптиката, електрониката и слънчевата енергия.Свойствата на филма, като проводимост, отразяваща способност и твърдост, могат да бъдат персонализирани чрез регулиране на процеса на отлагане, което прави волфрамовите мишени универсален инструмент за индустриално производство на тънък филм.

Защо волфрамът се използва като целеви материал?

Волфрамът се използва като мишена в процеса на физическо отлагане на пари (PVD) поради няколко причини:

1. Висока точка на топене: Волфрамът има най-високата точка на топене сред всички метали, така че е подходящ да издържа на високите температури, генерирани по време на PVD процеса.Това позволява на волфрамовата мишена да издържи на топлинен стрес и да запази своята структурна цялост по време на отлагането.

2. Топлинна проводимост: Волфрамът има отлична топлопроводимост и помага за разсейването на топлината, генерирана по време на PVD процеса.Това свойство е от решаващо значение за поддържане на стабилността на целта и осигуряване на равномерно отлагане на филма.

3. Химически инертен: Волфрамът има силна устойчивост на химични реакции и корозия, което го прави идеален материал за PVD процеса.В PVD процеса целевият материал трябва да остане стабилен в присъствието на реактивни газове или високоенергийна плазма.

4. Качество на филма: Волфрамовите мишени могат да произвеждат висококачествени филми с идеални свойства като висока плътност, еднородност и адхезия към субстратите, което ги прави подходящи за широк спектър от индустриални приложения.

Като цяло, уникалната комбинация от свойства, проявявани от волфрама, включително висока точка на топене, топлопроводимост и химическа стабилност, го правят отличен целеви избор в PVD процеса, способен да произвежда различни филми с висока производителност.Индустриални приложения.