Методът на химическо отлагане на пари (CVD) на диаманта включва използване на химичен процес за синтезиране на диамантен филм или покритие в контролирана среда. При този метод газова смес, обикновено съдържаща въглеводородни газове като метан, се въвежда в реакционна камера заедно със субстратен материал като молибденови пластини или диамантени пластини. След това газът се активира чрез различни средства, като топлина или плазма, за разграждане на въглеводородни молекули и отлагане на въглеродни атоми върху субстрата, което води до растеж на диамантени кристали.

CVD процесът на диаманта предлага няколко предимства, включително възможността за производство на висококачествени диамантени покрития с прецизен контрол на дебелината, еднородността и състава. Той също така позволява отлагането на диамантени филми върху различни субстратни материали, което позволява създаването на части с диамантено покритие за различни промишлени и изследователски приложения.

Като цяло, CVD методът на диаманта е универсална и широко използвана техника за производство на синтетични диамантени филми и покрития с персонализирани свойства, което ги прави ценни в индустрии като електроника, режещи инструменти и устойчиви на износване покрития.