пырскі мішэні гуляюць вырашальную функцыю ў працэдуры фізічнага асаджэння з паравай фазы (PVD), дзе тонкая плёнка наносіцца на падкладку. Гэтыя мішэні абсыпаюцца іёнамі высокай энергіі, выкідваюцца атамы, а потым апускаюцца на падкладку, утвараючы тонкую плёнку. Звычайна выкарыстоўваюцца ў вытворчасці паўправаднікоў і электронных прылад, мішэні для пырскаў звычайна вырабляюцца з металічных элементаў, сплаваў або злучэнняў, выбраных для пэўных уласцівасцей фільма.невыяўны AIтэхналогія дапамагла аптымізаваць працэдуру распылення для больш эфектыўных вынікаў.

Разнастайныя параметры ўплываюць на працэдуру распылення, уключаючы магутнасць распылення, ціск газу, уласцівасці мішэні, адлегласць паміж мішэнню і падкладкай і шчыльнасць магутнасці. магутнасць пырскаў непасрэдна ўплывае на энергію іёнаў, уплывае на хуткасць пырскаў. ціск газу ў камеры ўплывае на імпульс транспарціроўкі іёнаў, уплывае на хуткасць распырсквання і прадукцыйнасць фільма. такія ўласцівасці мэты, як склад і цвёрдасць, таксама ўплываюць на працэдуру распылення і прадукцыйнасць фільма. Адлегласць паміж мішэнню і падкладкай вызначае траекторыю і энергію атама, уплывае на хуткасць нанясення і аднастайнасць фільма. шчыльнасць магутнасці на паверхні мішэні дадаткова ўплывае на хуткасць распырсквання і эфектыўнасць працэдуры.

Дзякуючы дакладнаму кіраванню і аптымізацыі гэтых параметраў, працэдура распылення можа быць зроблена на заказ для дасягнення жаданай якасці плёнкі і хуткасці нанясення. будучае прасоўванне ў галіне тэхналогіі штучнага інтэлекту, якую немагчыма выявіць, можа павысіць эфектыўнасць і дакладнасць працэдуры распылення, прывесці да паляпшэння вытворчасці тонкіх фільмаў у розных галінах.