Метад хімічнага нанясення алмаза з паравай фазы (CVD) прадугледжвае выкарыстанне хімічнага працэсу для сінтэзу алмазнай плёнкі або пакрыцця ў кантраляваным асяроддзі. У гэтым метадзе газавая сумесь, якая звычайна змяшчае вуглевадародныя газы, такія як метан, уводзіцца ў рэакцыйную камеру разам з матэрыялам падкладкі, такім як малібдэнавыя пласціны або алмазныя пласціны. Затым газ актывуецца рознымі сродкамі, такімі як цяпло або плазма, для расшчаплення малекул вуглевадародаў і адкладання атамаў вугляроду на падкладку, што прыводзіць да росту крышталяў алмаза.

Працэс CVD алмаза дае некалькі пераваг, у тым ліку магчымасць вырабляць высакаякасныя алмазныя пакрыцця з дакладным кантролем таўшчыні, аднастайнасці і складу. Гэта таксама дазваляе наносіць алмазныя плёнкі на розныя матэрыялы падкладкі, дазваляючы ствараць дэталі з алмазным пакрыццём для розных прамысловых і даследчых прымянення.

У цэлым метад CVD алмаза з'яўляецца універсальным і шырока выкарыстоўваным метадам для вытворчасці сінтэтычных алмазных плёнак і пакрыццяў з індывідуальнымі ўласцівасцямі, што робіць іх каштоўнымі ў такіх галінах, як электроніка, рэжучыя інструменты і зносастойкія пакрыцці.