Çin W1 vakuum örtük üçün təmiz volfram volfram qayıq İstehsalçı və Təchizatçı |Saxta volfram

Vakuum örtük üçün W1 təmiz volfram volfram qayıq

Qısa Təsvir:

W1 təmiz volfram qayıq tez-tez vakuum örtük prosesində istifadə olunur.Bu qayıqlar vakuum buxarlanma sistemlərində metallar və ya digər maddələr kimi materialları saxlamaq və daşımaq üçün nəzərdə tutulub.Saf volframın yüksək ərimə nöqtəsi və əla istilik keçiriciliyi onu bu tətbiq üçün ideal edir, çünki o, yüksək temperaturlara dözə bilir və vakuum mühitində materialın buxarlanması üçün tələb olunan vahid istiliyi təmin edir.

Bizə e-poçt göndərin PDF olaraq yükləyin

Məhsul təfərrüatı

Məhsul Teqləri

Metalizasiyanın vakuum buxarlanma texnikası nədir?

Metalizasiya üçün vakuum buxarlanma texnologiyası yüksək vakuum mühiti və fiziki buxar çökmə (PVD) prosesindən istifadə edərək, nazik metal təbəqələrin substratlara çökdürülməsini nəzərdə tutur.Bu texnologiyada, alüminium, qızıl və ya gümüş kimi bir metal mənbə materialı buxarlanma gəmisində qızdırılır və bu, buxarlanmasına səbəb olur və sonra nazik və vahid bir metal film meydana gətirmək üçün substratın üzərinə kondensasiya olunur.

Metalizasiya vakuum buxarlanma texnologiyasında iştirak edən addımlar ümumiyyətlə aşağıdakıları əhatə edir:

1. Hazırlanması: Metallaşdırılacaq substratı təmizləyin və vakuum kamerasına qoyun.

2. Buxarlanma: Metal mənbə materialını volfram qayığı kimi buxarlanma gəmisinə qoyun və yüksək vakuum mühitində buxarlanma temperaturuna qədər qızdırın.Metal buxarlandıqda, substrata düz bir xəttlə hərəkət edir.

3. Çöküntü: Metal buxarı səthə yapışan nazik bir film yaratmaq üçün substratda kondensasiya olunur.

4. Film böyüməsi: Çökmə prosesi istənilən metal film qalınlığına çatana qədər davam edir.

5. Sonradan emal: Metalizasiyadan sonra, substrat metal filmin xüsusiyyətlərini artırmaq üçün tavlama və ya örtük kimi əlavə emal mərhələlərinə keçə bilər.

Vakuum buxarlanma metalizasiya texnologiyası elektronika, optika və avtomobil kimi sənayelərdə geniş istifadə olunur, burada metal filmlər keçirici, əks etdirən və ya dekorativ bitirmə əldə etmək üçün substratlara tətbiq olunur.

Vakuum buxarlanmasının mənbəyi nədir?

İncə təbəqənin çökmə proseslərində vakuum buxarlanma mənbəyi adətən vakuum kamerasında yaradılmış yüksək vakuum mühitidir.Vakuum kamerası aşağı təzyiqli mühit yaratmaq üçün hava və digər qazları çıxaran vakuum nasosu ilə təchiz edilmişdir.Vakuum nasosları prosesin xüsusi tələblərindən asılı olaraq fırlanan qanadlı nasoslar, diffuziya nasosları və ya turbomolekulyar nasoslar kimi müxtəlif növ ola bilər.

Vakuum kamerası tələb olunan aşağı təzyiqli mühitə çatdıqdan sonra, buxarlanacaq material rezistiv istilik və ya elektron şüa qızdırmasından istifadə edərək buxarlanma gəmisində (məsələn, W1 Saf Volfram Boat) qızdırılır.Material buxarlanma temperaturuna çatdıqda, buxarlanır və düz bir xəttlə substrata doğru hərəkət edir, burada nazik bir film örtüyü yaratmaq üçün kondensasiya olunur.

Yüksək vakuum mühiti vakuum buxarlanma prosesinin müvəffəqiyyəti üçün çox vacibdir, çünki o, qaz molekullarının və çirkləndiricilərin mövcudluğunu minimuma endirərək, substratda yüksək keyfiyyətli, vahid filmlərin çökməsinə imkan verir.