Almazın kimyəvi buxar çökmə (CVD) üsulu, idarə olunan mühitdə almaz filmi və ya örtüyü sintez etmək üçün kimyəvi prosesdən istifadə etməyi əhatə edir. Bu üsulda, adətən metan kimi karbohidrogen qazları olan qaz qarışığı, molibden vafli və ya almaz vafli kimi substrat materialı ilə birlikdə reaksiya kamerasına daxil edilir. Qaz daha sonra karbohidrogen molekullarını parçalamaq və karbon atomlarını substrata yerləşdirmək üçün istilik və ya plazma kimi müxtəlif vasitələrlə aktivləşdirilir və nəticədə almaz kristallarının böyüməsi baş verir.

Almazın CVD prosesi bir sıra üstünlüklər təklif edir, o cümlədən qalınlığa, vahidliyə və tərkibinə dəqiq nəzarət etməklə yüksək keyfiyyətli almaz örtükləri istehsal etmək imkanı. O, həmçinin müxtəlif sənaye və tədqiqat tətbiqləri üçün almazla örtülmüş hissələrin yaradılmasına imkan verən müxtəlif substrat materialları üzərində almaz filmlərinin çökməsinə imkan verir.

Ümumilikdə, almazın CVD üsulu sintetik almaz plyonkalarının və fərdi xüsusiyyətlərə malik örtüklərin istehsalı üçün çox yönlü və geniş istifadə olunan bir texnikadır ki, bu da onları elektronika, kəsici alətlər və aşınmaya davamlı örtüklər kimi sənayelərdə qiymətli edir.