يتم استخدام التنغستن كهدف في عملية ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) لعدة أسباب:

1. نقطة انصهار عالية: يتمتع التنغستن بأعلى نقطة انصهار بين جميع المعادن، لذا فهو مناسب لتحمل درجات الحرارة المرتفعة المتولدة أثناء عملية PVD.وهذا يسمح لهدف التنغستن بمقاومة الضغط الحراري والحفاظ على سلامته الهيكلية أثناء الترسيب.

2. الموصلية الحرارية: يتمتع التنغستن بموصلية حرارية ممتازة ويساعد على تبديد الحرارة المتولدة أثناء عملية PVD.تعتبر هذه الخاصية ضرورية للحفاظ على استقرار الهدف وضمان ترسيب الفيلم بشكل موحد.

3. خامل كيميائيًا: يتمتع التنغستن بمقاومة قوية للتفاعلات الكيميائية والتآكل، مما يجعله مادة مثالية لعملية PVD.في عملية PVD، يجب أن تظل المادة المستهدفة مستقرة في وجود الغازات التفاعلية أو البلازما عالية الطاقة.

4. جودة الفيلم: يمكن لأهداف التنغستن إنتاج أفلام عالية الجودة ذات خصائص مثالية مثل الكثافة العالية والتجانس والالتصاق بالركائز، مما يجعلها مناسبة لمجموعة واسعة من التطبيقات الصناعية.

بشكل عام، فإن المزيج الفريد من الخصائص التي يعرضها التنغستن، بما في ذلك نقطة الانصهار العالية، والتوصيل الحراري والاستقرار الكيميائي، يجعله خيارًا ممتازًا للهدف في عملية PVD، وهو قادر على إنتاج مجموعة متنوعة من الأفلام عالية الأداء.تطبيقات صناعية.